[发明专利]显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法

说明书

本申请是申请号为201180058311.8(国际申请号为PCT/JP2011/073738)、中国国家阶段进入日为2013年6月3日(国际申请日为2011年10月14日)、发明名称为“显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法”的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法。

背景技术

数码照相机、手机和PDA等显示装置等的保护玻璃以及触摸屏显示器的玻璃基板使用通过离子交换等进行化学强化处理而得到的玻璃(以下也称为化学强化玻璃)。与未强化的玻璃相比，化学强化玻璃的机械强度高，因此适合这些用途(参考专利文献1～3)。

显示装置等的保护玻璃和触摸屏显示器的玻璃基板要求具有高透明性、平滑性和美观性。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭57-205343号公报

专利文献2：日本特开平9-236792号公报

专利文献3：日本特开2009-84076号公报

发明内容

发明所要解决的问题

但是，将化学强化玻璃基板用于显示装置用途的情况下，有时会产生美观上的问题。本发明人对产生美观问题的玻璃基板进行了分析，结果获知玻璃基板的表面产生了极小的凹状的缺陷(以下也称为凹状缺陷)。

因此，本发明的目的在于提供能够抑制凹状缺陷产生的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法。

用于解决问题的手段

本发明人对上述问题进一步进行了深入研究，结果发现，当供于化学强化工序的玻璃的表面存在钙盐时，经过干燥工序会使钙固着在玻璃的表面上，由于所固着的钙，经过化学强化工序而产生凹状缺陷。

而且还发现，通过使化学强化工序前的最后清洗工序中使用的清洗液中的钙浓度为特定浓度以下，即使经过化学强化工序也能够有效地抑制玻璃中的凹状缺陷，从而完成了本发明。

即，本发明的主旨如下所述。

1.一种显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法，其中，化学强化工序前的最后清洗工序中使用的清洗液中的钙浓度为5ppm以下。

2.如上述第1项所述的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法，其中，所述清洗液为水。

发明效果

根据本发明的制造方法，通过使化学强化工序前的最后清洗工序中使用的清洗液中的钙浓度为特定浓度以下，能够防止供于化学强化工序的玻璃的表面存在钙盐，能够防止预热工序中由该钙盐生成钙离子扩散而成的层。由此，能够抑制离子交换工序中因该钙离子层导致离子交换障碍而产生凹状缺陷。

附图说明

图1是表示化学强化玻璃的制造工序中凹状缺陷的产生机制的图。

图2是表示凹状缺陷的深度与同预热工序前的玻璃接触的溶液中的钙浓度的相关性的图。

图3表示通过在滴加含钙的溶液后进行预热和离子交换处理而在玻璃表面产生的凹状缺陷的分析方法。

图4是表示通过在滴加含钙的溶液后进行预热和离子交换处理而在玻璃表面产生的凹状缺陷的纹理图像的结果的图。

图5是表示通过在滴加含钙的溶液后进行预热和离子交换处理而在玻璃表面产生的凹状缺陷的深度和宽度的图。

图6是表示通过在滴加含钙的溶液后进行预热和离子交换处理而在玻璃表面产生的凹状缺陷的纹理图像的结果的图。

图7是表示通过在滴加含钙的溶液后进行预热和离子交换处理而在玻璃表面产生的凹状缺陷的深度和宽度的图。

图8是表示通过在滴加含钙的溶液后进行预热和离子交换处理而在玻璃表面产生的凹状缺陷的表面的玻璃的K₂O、Na₂O和CaO的含量分布的图(拍摄倍率150倍)。

具体实施方式

以下，对本发明进行详细说明，但本发明不限定于此。

本发明的显示装置用化学强化玻璃基板的制造方法通常依次包括对玻璃进行研磨加工的研磨工序、清洗工序、最后清洗工序、干燥工序和化学强化工序。化学强化工序包含离子交换工序作为必要工序，多数情况下在离子交换工序之前包含预热工序。

[凹状缺陷产生的机制]