[发明专利]一种利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统

说明书

技术领域

本发明涉及计数系统领域，尤其涉及一种利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统。

背景技术

目前，公知的激光颗粒计数系统采用的是单激光投影，利用投影在对面的阴影产生的电压脉冲进行计算颗粒尺寸和计数，针对微小颗粒，容易产生散射，产生的电压也不稳定，同时在单激光投影中，很多投影重叠的颗粒会被减少计算，而一些投影相接的颗粒也会被扩大颗粒粒径尺寸，原有激光计数系统采用的是激光静止，载有微小颗粒的介质是流动的，造成投影失真等现象。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种可以避免介质运动、叠加和重叠带来误差的同时，更好的提高精度，更准确的反应事实的利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统。

所述利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统，包括沿X轴方向照射的第一激光源以及沿Y轴方向照射的第二激光源，所述第一激光源以及第二激光源分别与计数装置中的线路板以及芯片连接，还包括沿Z轴方向的规则通道，所述规则通道内设置有微小颗粒介质，所述第一激光源以及第二激光源固定或随着规则通道内的介质流动而运动，保持速率一致。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：

本实施例利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统，采用X轴和Y轴两个激光测试头可以随介质同速率沿Z轴移动，激光和颗粒相对静止，避免运动带来误差；在X轴的投影，在Y轴方向上的投影会有重叠和叠加，同样在Y轴方向上的投影也会在X轴方向上有重叠和叠加，而采用双激光头测试头后，可以利用软件对这些颗粒位置进行分析计算，去除重叠颗粒和叠加颗粒带来误差，使计数和颗粒粒径更准确，被测介质速度在一定范围内是,激光测试头固定或激光测试头与被测介质同速移动,相对是静止的，高倍数的两个方向的立体成像给散射及重叠和叠加进行进一步的验证分析，使数据更科学可信。

附图说明

图1是本发明实施例结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。

本发明实施例利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统，包括沿X轴方向照射的第一激光源1以及沿Y轴方向照射的第二激光源2，第一激光源1以及第二激光源2分别与计数装置中的线路板以及芯片3连接，还包括沿Z轴方向的规则通道4，规则通道4内设置有微小颗粒介质5，被测介质速度在一定范围内是,激光测试头固定或激光测试头与被测介质同速移动,相对是静止的，保持速率一致，通过第一激光源以及第二激光源的照射下反映在对应面上的电流通过电路反映到芯片中，通过对应软件计算，得到颗粒尺寸和计数，激光光源随着介质流动而运动，保持速率一致，相对颗粒的影像来说是静止的，消除运动拖影现象，计数和尺寸更为准确，采用单一激光光源，会造成颗粒的重叠和叠加，而通过二维成像，并通过软件计算分析，能有效剔除重叠和叠加的误差，是颗粒尺寸及数量更为准确。

本实施例利用激光成像及投影的微小颗粒计数的系统，采用X轴和Y轴两个激光测试头可以随介质同速率沿Z轴移动，激光和颗粒相对静止，避免运动带来误差；在X轴的投影，在Y轴方向上的投影会有重叠和叠加，同样在Y轴方向上的投影也会在X轴方向上有重叠和叠加，而采用双激光头测试头后，可以利用软件对这些颗粒位置进行分析计算，去除重叠颗粒和叠加颗粒带来误差，使计数和颗粒粒径更准确，被测介质速度在一定范围内是,激光测试头固定或激光测试头与被测介质同速移动,相对是静止的，高倍数的两个方向的立体成像给散射及重叠和叠加进行进一步的验证分析，使数据更科学可信，双激光测试头，有效避免颗粒投影重叠而造成的减少计数的缺陷，有效避免颗粒投影叠加而造成的颗粒尺寸误放大的缺陷，激光成像后对于成像进行的二次软件分析，进一步减少以上两种缺陷带来的误差。

以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。