[发明专利]一种高真空原位储靶装置及其使用方法

权利要求书

1.一种高真空原位储靶装置，其特征在于，包括：

一用于储靶腔的腔体，所述腔体的内部设有若干层靶材层，并且每一所述靶材层具有若干用于放置靶材的靶材托盘，同时，若干层所述靶材层可在所述腔体的内部移动；

所述腔体的外侧壁开设驳接接口，所述驳接接口连接外置真空腔体，并且所述驳接接口安装接口阀门，通过所述驳接接口用于存放或者取用所述靶材；还包括：

真空泵，所述真空泵与所述腔体相连接。

2.根据权利要求1所述高真空原位储靶装置，其特征在于，若干层所述靶材层包括一沿所述腔体内部从上至下的竖直杆，以及在所述竖直杆外侧壁向外延伸的若干层分支杆层，每一所述分支杆层具有若干分支杆，并且每一所述分支杆的头部安装所述靶材托盘。

3.根据权利要求2所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述竖直杆连接一驱动装置，所述驱动装置驱动所述竖直杆绕自身旋转或者沿所述腔体的内部上下移动。

4.根据权利要求1所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述腔体的底部开设一真空泵接口，所述真空泵接口与所述真空泵连接，并且所述真空泵接口安装一真空泵阀门，使得所述腔体的内部为真空环境。

5.根据权利要求1所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述腔体的内部为惰性气氛环境，所述惰性气氛为He、Ne、Ar、Ke、Xe或者N₂。

6.根据权利要求4所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述腔体的真空度为常压、低真空、中等真空、高真空或者超高真空环境；所述常压为100kPa，所述低真空为10⁵至10²Pa，所述中等真空为10²至10^-1Pa，所述高真空为10^-1至10^-5Pa，所述超高真空为低于10^-5Pa。

7.根据权利要求1所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述真空泵为机械真空泵、分子泵、离子泵、升华泵、吸气剂或其组合。

8.根据权利要求3所述高真空原位储靶装置，其特征在于，所述驱动装置为电机驱动或者手动驱动。

9.一种高真空原位储靶装置的使用方法，其特征在于，包括权利要求1至8中任意一项所述高真空原位储靶装置；

打开所述接口阀门，所述驱动装置驱动所述竖直杆上下升降和旋转，将需要取用的所述分支杆和所述靶材托盘运动至所述接口阀门，所述靶材取用后关闭所述接口阀门，然后打开所述真空泵阀门和所述真空泵对所述腔体抽真空，以满足真空度要求。