[发明专利]一种用于制造太阳能电池的方法

权利要求书

1.一种用于制造太阳能电池的方法，该方法包括以下步骤：

在具有第一导电类型的基板表面贴合活动选择性模板；

通过使用离子注入法来在基板的第一表面处形成与所述第一导电类型相反的第二导电类型的发射区；

移除所述活动选择性模板；

在被定位为与所述基板的所述第一表面相反的第二表面上形成钝化层；以及

形成第一电极和第二电极，所述第一电极位于所述基板的所述第一表面上被活动选择性模板遮盖的位置，而所述第二电极位于所述基板的所述第二表面上并通过所述钝化层选择性地连接到所述基板；

所述第一电极是含有掺杂剂的银浆采用丝网印刷工艺印制并烧结而形成。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述形成所述发射区的步骤包括以下步骤：

使用所述离子注入法将所述第二导电类型的杂质注入到所述基板的所述第一表面中，以在所述基板的所述第一表面处形成杂质区；以及

在氧气环境中对具有所述杂质区的所述基板进行热处理，所述热处理与印刷完银浆的烧结步骤同时进行，以将所述杂质区转变为所述发射区并在所述基板的所述第一表面和所述第二表面上形成第一热氧化膜和第二热氧化膜。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述钝化层形成在位于所述基板的所述第二表面上的所述第二热氧化膜上。

4.根据权利要求2所述的方法，该方法还包括以下步骤：在位于所述基板的所述第一表面上的所述第一热氧化膜上形成防反射层，

其中，所述第一电极通过所述防反射层和所述第一热氧化膜连接到所述基板。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述防反射层由氮化硅形成。

6.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一热氧化膜和所述第二热氧化膜中的每一个具有15nm至30nm的厚度。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述钝化层由氮化硅形成。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，所述形成所述钝化层的步骤包括以下步骤：

使用氧化硅形成第一钝化层；以及

使用氮化硅形成第二钝化层。

9.根据权利要求1所述的方法，该方法还包括以下步骤：在形成所述发射区之前，在所述基板的所述第一表面和所述第二表面中的每一个上形成纹理表面。

10.根据权利要求9所述的方法，该方法还包括以下步骤：对形成在所述基板的所述第二表面上的所述纹理表面进行抛光，以形成平坦表面。