[发明专利]一种粉末吸附剂均匀喷射系统

说明书

技术领域

本发明属于烟气污染物减排技术领域，涉及一种喷射系统，具体涉及一种粉末吸附剂均匀喷射系统。

背景技术

煤或垃圾等固体燃料燃烧后所排放的烟气中有SO₃、HCl、Hg等大量有害有毒物质，大气污染物经济高效的治理成为我国乃至全球亟需解决的难题之一。

活性炭、沸石等多孔介质，具有高度发达的孔隙构造，具有较大的表面积，能与气体(杂质)充分接触，从而具有特有的吸附性能。采用吸附剂吸附已成为脱除气体中有毒有害物质的常用方法之一。

但是，目前大多数的吸附剂吸附采用固定床的吸附装置，将含有有毒有害物质的气体通过装载有吸附剂的床层，有毒有害物质被吸附在床层上，净化后的气体进入下一步工序或直接排出。固定床吸附在应用于小烟气量处理时，比较方便。但在应用于燃煤电厂等大烟气处理量时，固定床吸附存在设备体积大，操作复杂，劳动强度大等缺点。因此，流动床吸附技术得到了一定的发展和应用。流动床吸附就是将粉状吸附剂通过机械或气力输送的方式加入到烟气中形成烟气-吸附剂两相混合物，吸附剂与有毒有害物质在流动的烟气中发生接触和吸附，在后续的除尘系统中将吸附剂和有害物质一并脱除，从而实现烟气的净化。

流动床吸附技术的关键吸附剂在烟气中的均匀分布问题。目前，吸附剂通常经过气力输送装置后，直接采用文丘里喷枪喷射将吸附剂喷射到烟道中，这种方法活性炭分别均匀性较差，只能应用于小烟气量的气体的净化。在应用于燃煤电厂、垃圾焚烧炉等处理大流量烟气时，吸附剂很难在烟气中均匀分布，导致有害物质脱除效率低、吸附剂用量大、运行成本高等缺点。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供了一种粉末吸附剂均匀喷射系统，该系统可以有效的提高吸附剂在烟道中分布的均匀性，从而提高烟道中有害物质的脱除效率。

为达到上述目的，本发明所述的粉末吸附剂均匀喷射系统包括气体储罐、吸附剂计量给料系统、喷射器、若干粉体分配器及若干喷枪，气体储罐的压缩气体出口与喷射器的压缩气体入口相连通，吸附剂计量给料系统的吸附剂出口与喷射器的吸附剂入口相连通，喷射器的出口分为若干路，其中每一路均与一个粉体分配器的入口相连通，粉体分配器的出口分为若干路，其中每一路均与一个喷枪的入口相连通，喷枪设置于烟道内。

所述吸附剂计量给料系统包括吸附剂料仓、定量给料机以及用于控制定量给料机的给料速度的计量装置，吸附剂料仓的吸附剂出口与定量给料机的吸附剂入口相连通，定量给料机的吸附剂出口与喷射器的吸附剂入口相连通。

各喷枪按网格形均匀分布在烟道内。

所述喷射器为文丘里喷射器。

所述喷枪为圆筒状结构，喷枪沿轴向方向上开设有若干喷射孔。

本发明具有以下有益效果：

本发明所述的粉末吸附剂均匀喷射系统在将吸附剂喷射到烟道的过程中，先将压缩气体经气体储罐储存后直接进入到喷射器中，吸附剂计量给料系统将吸附剂连续的输入到喷射器中，再与喷射器中的压缩气体混合后形成吸附剂气流，吸附剂气流再经二次分流后进入到各喷枪中，并通过喷枪喷射到烟道中，从而有效地提高吸附剂在烟道中分布的均匀性，增加吸附剂与烟道中有害物质的接触机会，提高有害物质的脱除效率，结构简单，操作方便，并且成本低。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为本发明中各喷枪7的分布图。

其中、1为气体储罐、2为吸附剂料仓、3为定量给料机、4为喷射器、5为粉体分配器、6为烟道、7为喷枪。

具体实施方式

参考图1及图2，本发明所述的粉末吸附剂均匀喷射系统包括气体储罐1、吸附剂计量给料系统、喷射器4、若干粉体分配器5及若干喷枪7，气体储罐1的压缩气体出口与喷射器4的压缩气体入口相连通，吸附剂计量给料系统的吸附剂出口与喷射器4的吸附剂入口相连通，喷射器4的出口分为若干路，其中每一路均与一个粉体分配器5的入口相连通，粉体分配器5的出口分为若干路，其中每一路均与一个喷枪7的入口相连通，喷枪7设置于烟道6内，所述吸附剂计量给料系统包括吸附剂料仓2、定量给料机3以及用于控制定量给料机3的给料速度的计量装置，吸附剂料仓2的吸附剂出口与定量给料机3的吸附剂入口相连通，定量给料机3的吸附剂出口与喷射器4的吸附剂入口相连通。

需要说明的是，各喷枪7按网格形均匀分布在烟道6内，喷射器4为文丘里喷射器，喷枪7为圆筒状结构，喷枪7沿轴向方向开设有若干喷射孔。

本发明的具体工作过程为：

压缩气体经气体储罐1储存后输入到喷射器4中，吸附剂料仓2中的吸附剂输入到定量给料机3中，定量给料机3连续的将吸附剂输入到喷射器4中，喷射器4中的压缩气体与进入到喷射器4中的吸附剂混合后形成吸附剂气流，吸附剂气流分流后分别进入到各粉体分配器5中，各粉体分配器5再对吸附剂气流进行二次分流，二次分流后的吸附剂气流经喷枪7喷射到烟道6中，并对烟道6中的有害物质进行净化。所述气体储罐1输出的压缩气体的压强为0.3～2MPa。所述烟道6有害物质包括HCl、SO₃及Hg等。