[发明专利]一种色散型光谱成像仪谱线弯曲校正方法及装置有效

专利信息
申请号: 201410648131.0 申请日: 2014-11-15
公开(公告)号: CN104316183A 公开(公告)日: 2015-01-28
发明(设计)人: 景娟娟;周锦松;张雪静;李雅灿;曾晓茹 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01M11/00
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;郑哲
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 色散 光谱 成像 仪谱线 弯曲 校正 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及光谱成像仪技术领域,尤其涉及一种色散型光谱成像仪谱线弯曲校正方法及装置。

背景技术

光谱成像技术是20世纪80年代发展起来的一种新型信息获取技术,可以同时获取目标的二维空间信息和一维光谱信息,在民用和军用领域得到了广泛应用。根据分光方式不同,光谱成像技术可以分为色散型、干涉型、可调谐滤光片型、计算层析型等。其中色散型光谱成像技术比较成熟,应用也最为广泛,但由于光学系统装调误差的存在,其谱线弯曲(smile效应)较大,因此,需要对每个像元进行精确的光谱定标,确定每个像元的工作中心波长和光谱辐射带宽,依据该中心波长矩阵可进行谱线弯曲校正,从而实现辐射能量采集的一致性。

关于像元工作中心波长的标定通常有两种方法:谱线灯法和单色仪法。由于大多数图像分析系统处理数据都认为对应一个光谱通道的所有空间像元具有相同的中心波长,谱线弯曲破坏了色散型光谱成像仪穿轨方向同一行/列不同位置像元光谱辐射能量采集的一致性,所以需要对系统采集到的辐射能量数据根据无偏离波长数据进行重采样以校正辐射能量的偏差,提高光谱辐射能量的一致性。

目前常用的谱线弯曲校正方法主要是插值法:认为第j个光谱通道第i+m个像元在第i个像元中心波长λj的光谱辐射能量近似值φi+m,j可以从第i+m列像元采集到的光谱辐射能量数据中重新构建,即由光谱曲线上波长λj附近的若干离散数据点插值得到。假设第i+m列像元采集到的光谱辐射能量数据为φi+m,1i+m,1),φi+m,2i+m,2),…,φi+m,j-1i+m,j-1),φi+m,ji+m,j),φi+m,j+1(λi+m,j+1),…,φi+m,n-1i+m,n-1),φi+m,ni+m,n)其中n为通道数,只需将这些离散数据与一个被称为插值核的有限长连续冲击响应卷积即可得到第(i+m,j)个像元对应第(i,j)个像元的中心波长λj的光谱辐射能量值φ′i+m,ji,j)。该卷积核的具体形式可以是线性、三点二次多项式、四点三次Lagrange、五点四次Lagrange、三次Hermite和三次样条插值方法等。

插值方法的选择与光谱分辨率有关,不同插值方法在不同的光谱分辨率下其精度不同,所以通用性不强。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种色散型光谱成像仪谱线弯曲校正方法及装置,提高校正光谱的精度。

本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的:

一种色散型光谱成像仪谱线弯曲校正方法,包括:

计算第m列所有光谱通道中心波长与无偏离中心波长λj之间的欧氏距离,选择距离最小的位置点s以及所述位置点对应的中心波长为λm,s,在相邻的光谱通道上,选择与所述位置点s相邻的位置点以及所述相邻的位置点对应的中心波长,其中,m取值为1~N,j取值为1~M,M为穿轨方向的像素个数,N为沿轨方向的像素个数;

计算所述位置点s对应的中心波长λm,s与无偏离中心波长λj之间的欧氏距离,以及所述相邻的位置点对应的中心波长与无偏离中心波长λj之间的欧氏距离;

根据上述距离计算结果计算所述位置点s对应的中心波长λm,s的反距离权重值,以及所述相邻的位置点对应的中心波长的反距离权重值;

根据上述反距离权重值计算结果计算所述第m列对应所述无偏离中心波长λj的光谱辐射能量值。

一种色散型光谱成像仪谱线弯曲校正装置,包括:

位置确定单元,用于计算第m列所有光谱通道中心波长与无偏离中心波长λj之间的欧氏距离,选择距离最小的位置点s以及所述位置点对应的中心波长为λm,s,在相邻的光谱通道上,选择与所述位置点s相邻的位置点以及所述相邻的位置点对应的中心波长,其中,m取值为1~N,j取值为1~M,M为穿轨方向的像素个数,N为沿轨方向的像素个数;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电研究院,未经中国科学院光电研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410648131.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top