[发明专利]一种离子注入加速装置

权利要求书

1.一种离子注入加速装置，其特征包括：在高压电极上安装入口光栏可以 防止溅射产生的二次电子，污染离子束；高压电极(2)、中间电极、低压电极 (6)组成五组等梯度加速装置，实现五次加速聚焦获得一定能量的离子束， 其中绝缘环(5)就有抗污染和绝缘性能，均压模块(3)为加速装置提供均匀 电场，防止局部高压放电；抑制电极(7)通过绝缘瓷柱固定在抑制固定环上， 主要作用是抑制二次电子，减少加速模式下的X射线。

2.如权利要求1所述的一种离子注入加速装置，其特征在于，入口装置(1) 中的高压电极上安装入口光栏，这样可以防止溅射，抑制二次电子的产生。

3.如权利要求1所述的一种离子注入加速装置，其特征在于，加速装置(2) 的五个等梯度电极之间形成均匀的电场，分级对离子束进行加速和聚焦，这样 可以改变加速模块组件的形状、电场强度，以及加速装置的电极数量或级数。

4.如权利要求1所述的一种离子注入加速装置，其特征在于，绝缘环(5)运 用两端密封面与电极构成一个密闭空间防止污染，并起到隔离绝缘作用，这样 可以改变绝缘环的材料、形状及装配方式。

5.如权利要求1所述的一种离子注入加速装置，其特征在于，均压模块(3) 由电阻、球型螺钉、均压环构成，为加速模块提供均匀的电场，防止高压放电， 这样可以改变各个部件之间的连接方式，各部件的轮廓形状及稳压理论。

6.如权利要求1所述的一种离子注入加速装置，其特征在于，抑制模块(7) 中抑制电极用绝缘瓷柱固定在抑制固定环上，并与地电极形成电场，起到屏蔽 二次电子的作用，这样可以改变抑制电极形状，增加或减少绝缘瓷柱，改变在 抑制固定环上的固定方法。