[发明专利]偏光膜和偏光膜的制造方法有效
| 申请号： | 201410638174.0 | 申请日： | 2014-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN104635289B | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 后藤周作;山本佳史;池岛健太郎 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/02 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇,李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏光 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种偏光膜，其包括具有10μm以下的厚度的聚乙烯醇系树脂薄膜，
其中：
所述聚乙烯醇系树脂薄膜具有6.0wt％以下的碘浓度；和
所述偏光膜具有由以下所示的等式定义的交联指数为100至200；
(交联指数)＝(薄膜中的碘浓度)×(薄膜中的硼酸浓度)，
其中，薄膜中的碘浓度和薄膜中的硼酸浓度的单位为wt％。
2.一种根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，其包括：
将聚乙烯醇系树脂层在树脂基材的一侧上形成；和
将所述树脂基材和所述聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸和染色从而将所述聚乙烯醇系树脂层形成为偏光膜，
所述拉伸包括：在将所述层压体浸渍在硼酸水溶液中的同时，拉伸所述层压体，所述硼酸水溶液具有5.0wt％以上的硼酸浓度。
3.根据权利要求2所述的制造方法，其中所述硼酸水溶液具有60℃以上的温度。
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