[发明专利]显示基板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于显示基板技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法。

背景技术

液晶显示面板的彩膜基板包括多个不同颜色的彩色子像素(如红色子像素、蓝色子像素、绿色子像素，即RGB模式)，每个彩色子像素对应彩膜基板的一块不同位置(各彩色子像素之间为设有黑矩阵)，而在每个彩色子像素中，均设有相应颜色的彩色滤光层(如为彩色光阻层)，用于将从该彩色子像素处透过的光过滤为不同颜色的光，以实现彩色显示。

随着技术的发展，人们发现增加白色子像素能够起到改善色域并提高透过率的效果，故具有白色子像素的彩膜基板(如RGBW模式)获得了越来越广泛的应用。显然，由于白色子像素发白光，故其实际不需要彩色滤光层。但如图1所示，各彩色子像素C中均设有彩色滤光层12，故若白色子像素W中没有相应的层结构，则会导致保护层14(OC，Over Coating)在白色子像素W位置产生凹陷，降低表面平整度，从而影响配向层的取向、液晶层厚度等，降低彩膜基板的均匀性。为此，如图2所示，需要在白色子像素W中形成与彩色滤光层C对应的透明层16，以将白色子像素W的位置“填平”，但该透明层16的材料与彩色滤光层12的材料不同，故其需要用单独的步骤形成，这导致彩膜基板的制备工艺复杂、成本高。

发明内容

本发明针对现有的具有白色子像素的彩膜基板制备工艺复杂、成本高的问题，提供一种制备工艺简单、成本低的显示基板及其制备方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，其包括白色子像素和彩色子像素，各所述彩色子像素中设有相应颜色的彩色滤光层，所述显示基板还包括透明的隔垫物，且

在所述白色子像素中设有与所述隔垫物同层设置的透明层。

优选的是，所述透明层的厚度与所述彩色滤光层的厚度相同。

进一步优选的是，所述透明层的厚度小于所述隔垫物的高度。

优选的是，所述显示基板为彩膜基板。

进一步优选的是，所述彩膜基板包括基底，所述彩色滤光层设于基底上方，所述彩色滤光层上方设有保护层，所述透明层和隔垫物设于所述保护层上方。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板的制备方法，其中所述显示基板包括白色子像素和彩色子像素，且还包括透明的隔垫物，所述制备方法包括：

形成彩色滤光层的步骤，以及同步形成隔垫物和透明层的步骤；其中，所述彩色滤光层形成于彩色子像素中且颜色与各彩色子像素的颜色分别对应，所述透明层形成于白色子像素中。

优选的是，所述透明层的厚度与所述彩色滤光层的厚度相同。

进一步优选的是，所述透明层的厚度小于所述隔垫物的高度。

优选的是，所述隔垫物和透明层由透明光阻材料构成，并通过光刻工艺同步形成。

进一步优选的是，所述同步形成隔垫物和透明层的步骤包括：形成透明光阻材料层；对所述透明光阻材料层进行阶梯曝光，使对应所述隔垫物和透明层处的透明光阻材料层的曝光程度不同；对所述透明光阻材料层进行显影，形成所述隔垫物和透明层。

其中，本发明中的“同层设置”是指两个结构是通过同一个完整的材料层形成的，因此对于其他的层结构，二者或者同时位于其上方，或者同时位于其下方，而不会出现“一上一下”的情况；也就是说，本发明的“同层设置”是指两个结构在层叠顺序上处于“同一层”，而并不带表二者在基板厚度方向上的绝对位置处于“一层”。

其中，本发明中的“光刻工艺”包括以下步骤：形成完整的光阻材料层，并对光阻材料层的一部分进行曝光，从而使曝光部分的光阻材料层的溶解性发生变化；之后用显影液处理光阻材料层，使曝光(或未曝光)的光阻材料层被除去(即显影)，从而剩余的光阻材料层形成所需结构。

本发明的显示基板中，在白色子像素中设有透明层，故其表面平整度高，显示效果好；且该透明层与隔垫物同层设置，而隔垫物是显示基板中原有的结构，故该透明层不需要使用额外的步骤和材料即可形成，而只要改变形成隔垫物时所用的掩膜板的图形即可，从而其可简化工艺、降低成本。

附图说明

图1为白色子像素中没有透明层时造成保护层凹陷的示意图；

图2为现有彩膜基板的局部剖面结构示意图；

图3为本发明的实施例的一种显示基板的局部剖面结构示意图；

图4为本发明的实施例的一种显示基板的制备方法的流程图。