[发明专利]一种AMOLED显示面板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种AMOLED显示面板，包括具有多个亚像素的阵列基板、位于所述阵列基板表面的像素界定层，以及位于所述像素界定层表面与所述亚像素一一对应的OLED显示结构，所述OLED显示结构发出的白光入射至所述阵列基板，其特征在于，

所述像素界定层包括彩色膜层；

其中，所述彩色膜层包括多个不同颜色的彩色单元，所述彩色单元与所述亚像素一一对应。

2.根据权利要求1所述的AMOLED显示面板，其特征在于，

所述像素界定层仅由所述彩色膜层构成。

3.根据权利要求1或2所述的AMOLED显示面板，其特征在于，所述OLED显示结构包括：

依次位于所述像素界定层表面的第一电极、有机材料功能层以及第二电极；其中，所述有机材料功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层以及电子注入层。

4.根据权利要求3所述的AMOLED显示面板，其特征在于，构成所述第二电极的材料包括金属铝或金属银中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的AMOLED显示面板，其特征在于，所述第一电极通过过孔与所述亚像素中的薄膜晶体管的漏极相连接。

6.根据权利要求3所述的AMOLED显示面板，其特征在于，所述有机发光层包括位于所述空穴传输层表面的，以任意顺序依次层叠的红色有机发光层、绿色有机发光层以及蓝色有机发光层。

7.根据权利要求3所述的AMOLED显示面板，其特征在于，所述有机发光层包括同层设置的，以任意顺序排列的红色有机发光层、绿色有机发光层以及蓝色有机发光层。

8.根据权利要求3所述的AMOLED显示面板，其特征在于，所述有机材料功能层的厚度与所述像素界定层的厚度相等。

9.根据权利要求1所述的AMOLED显示面板，其特征在于，所述彩色膜层的厚度范围为1～4μm。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的AMOLED显示面板。

11.一种AMOLED显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

形成具有多个亚像素的阵列基板；

在所述阵列基板的表面形成像素界定层，所述像素界定层包括彩色膜层；其中，所述彩色膜层包括多个不同颜色的彩色单元，所述彩色单元与所述亚像素一一对应；

在所述像素界定层的表面形成与所述亚像素一一对应的OLED显示结构；其中，所述OLED显示结构发出的白光入射至所述阵列基板。

12.根据权利要求11所述的AMOLED显示面板的制作方法，其特征在于，在所述亚像素包括像素电极的情况下，形成所述像素界定层的方法包括：

在所述阵列基板的表面形成仅由所述彩色膜层构成的像素界定层。