[发明专利]大口径光学元件动态干涉拼接测量装置及测量方法有效

专利信息
申请号: 201410614760.1 申请日: 2014-11-05
公开(公告)号: CN104330050B 公开(公告)日: 2017-09-29
发明(设计)人: 武欣;于瀛洁;王伟荣;张小强;许海峰;王驰 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙)31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 口径 光学 元件 动态 干涉 拼接 测量 装置 测量方法
【权利要求书】:

1.一种大口径光学元件动态干涉拼接测量装置,其特征在于,包含数控机箱(101)、主控计算机(102)、被测件移动调整平台(103)、动态干涉仪(105)、干涉仪升降台(106)、测量计算机(107),被测件(104)放置于所述被测件移动调整平台(103)上,动态干涉仪(105)安装在所述干涉仪升降台(106)上;所述干涉仪升降台(106)和所述被测件移动调整平台(103)通过电缆与所述数控机箱(101)连接,所述主控计算机(102)与所述数控机箱(101)通过信号线连接,所述主控计算机(102)与所述测量计算机(107)通过网线连接,所述测量计算机(107 )与动态干涉仪(105)通过信号线连接;所述主控计算机(102)安装有拼接测量主控软件,所述测量计算机(107)安装有动态干涉仪测量软件;所述主控计算机(102)上安装的主控软件集控制、测量、拼接计算于一体,可以控制所述被测件移动调整平台(103)的二维移动,远程控制所述测量计算机(107 )进行动态干涉仪的数据采集工作,读取测量计算机(107)上采集的数据并进行拼接计算;

所述被测件移动调整平台(103)以大理石为基底制造,包括平台二维调整机构(201)、底座(202)、二维移动机构(203)组成;其中,所述二维移动机构(203)包括X轴导轨(208)、Y轴导轨(205)、支撑架(204)、L型支撑台(206),所述X轴导轨(208)安装在底座(202)上,所述支撑架(204)垂直安装在所述X轴导轨(208)上,采用伺服电机驱动精密滚珠丝杠实现水平方向移动,所述Y轴导轨(205)安装在所述支撑架(204)上,所述L型支撑台(206)安装在所述Y轴导轨(205)上,采用伺服电机驱动精密滚珠丝杠实现竖直方向移动,所述被测件(104)放置于所述L型支撑台(206)上,并由三个滑块(207)从侧方固定;

所述装置以较少的调整维度达到较高的测量精度,操作简便自动化程度高,同时降低了对测量环境的要求,有较强的可实现性,是一种高精度、高效率的大口径光学元件的检测装置。

2.一种大口径光学元件动态干涉拼接测量方法,采用如权利要求 1 所述 测量装置进行测量,其特征在于,具体实施步骤为:

1)初始化参数设定:将被测件(104)尺寸输入所述主控计算机(102),给出测量方案,包括需要测量的子孔径数目、位置和测量路径信息;选择被测件移动调整平台(103)的运动速度,确定测量两个子孔径的时间间隔;

2)所述主控计算机(102)发出指令,进入测量前校准模式:调整所述干涉仪升降台(106)高度,使被测件(104)在二维移动范围内能够全部被动态干涉仪(105)有效测量区域覆盖;所述主控计算机(102)将所述被测件移动调整平台(103)移动至中间位置,使所述动态干涉仪(105)出射波面照射至被测件(104)中心位置,利用所述被测件移动调整平台(103)对所述被测件(104)进行二维倾斜调整,在所述动态干涉仪(105)上观察到清晰的条纹,并进行测量前校准,待结果符合稳定性要求之后进入下一步;

3)参数调整及确定:根据校准测量结果在所述主控计算机(102)上选择符合要求的测量参数,以及拼接前数据预处理方式;

4)所述主控计算机(102)发出指令,进入测量模式:所述主控计算机(102)控制所述被测件移动调整平台(103)根据测量路径运动,每当运动至一个子孔径时,触发所述测量计算机(107)和所述动态干涉仪(105)采集该子孔径面形数据,并记录数据,经过设置的时间间隔后,被测件(104)自动移至下一个子孔径,测量过程中无需调整被测件(104),无需人工干预测量,测量方案中每个子孔径都采集到测量数据之后,反馈至所述主控计算机(102)结束测量;

5)所述主控计算机(102)发出指令,进入拼接模式:所述主控计算机(102)远程读取所述测量计算机(107)上采集的数据,根据已选择的预处理方式对采集数据进行预处理,根据测量参数及路径对子孔径数据进行拼接,获得被测面表面面形。

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