[发明专利]钕铁硼磁体表面硬质铝膜层的制备方法在审
| 申请号： | 201410610935.1 | 申请日： | 2014-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN104480475A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | 杨昆昆;彭众杰 | 申请（专利权）人： | 烟台首钢磁性材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F17/00 | 分类号： | C23F17/00;C25D11/04 |
| 代理公司： | 烟台双联专利事务所(普通合伙) 37225 | 代理人： | 矫智兰 |
| 地址： | 265500 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 钕铁硼 磁体 表面 硬质 铝膜层 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.钕铁硼磁体表面硬质铝膜层的制备方法，其特征在于，包括如下工艺步骤：
a钕铁硼磁体表面铝膜层的制备；采用真空镀铝方式在钕铁硼磁体表面生成一层铝膜层；
b钕铁硼磁体表面铝膜层上硬质氧化物膜层的转变生成；将镀铝后的钕铁硼磁体作为阳极，置于电解液中进行阳极氧化，在钕铁硼磁体表面的铝膜层上转化生成铝的硬质氧化物膜层。
2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面硬质铝膜层的制备方法，其特征在于，a步骤所述的真空镀铝方式为多弧离子镀、磁控溅射、磁控多弧离子镀或真空蒸镀。
3.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面硬质铝膜层的制备方法，其特征在于，a步骤所述的铝膜层厚度5-40μm。
4.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体表面硬质铝膜层的制备方法，其特征在于，b步骤所述的电解液为硫酸、铬酸、硼酸、草酸或其混合酸。
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