[发明专利]一种透光率可调的航天飞机用机窗玻璃在审
| 申请号: | 201410606309.5 | 申请日: | 2014-10-30 |
| 公开(公告)号: | CN104298044A | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
| 发明(设计)人: | 禹幸福;陈圆 | 申请(专利权)人: | 中山市亨立达机械有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/153 | 分类号: | G02F1/153 |
| 代理公司: | 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327 | 代理人: | 石仁 |
| 地址: | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 透光率 可调 航天飞机 机窗 玻璃 | ||
技术领域:
本发明涉及一种透光率可调的航天飞机用机窗玻璃。
背景技术:
现有的航天飞机用机窗玻璃,其透光率无法自动调整。
故有必要对现有航天飞机用机窗玻璃作出改进,以提供一种透光率可调的航天飞机用机窗玻璃。
发明内容:
本发明的目的在于提供一种透光率可调的航天飞机用机窗玻璃,其透光率可调。
一种透光率可调的航天飞机用机窗玻璃,包括基片,所述基片的外表面上由内而外依次设有底层ITO透明导电层、W2O5电致变色层、VO2离子导电层、NiCrOX离子储存层、以及顶层ITO透明导电层。
本发明可通过如下方案进行改进:
所述基片为耐压透明树脂。
所述基片的厚度为15mm。
所述底层ITO透明导电层的厚度为300~400nm。
所述W2O5电致变色层的厚度为100~150nm。
所述VO2离子导电层的厚度为300nm。
所述NiCrOX离子储存层的厚度为1nm。
所述顶层ITO透明导电层的厚度为80~90nm。
本发明具有如下优点:1、本发明的初始颜色为透明,当在和W2O5电致变色层接触的底层ITO透明导电层上加上-3v的电压后,由于V+注入到W2O5电致变色层中,W2O5电致变色层变为乳白色,这时机窗玻璃的平均透过率为10%以下;当外加电源的极性改变时,本机窗玻璃转变为透明,这时其平均透过率为80%以上。
附图说明:
图1为本发明结构剖视图。
具体实施方式:
如图所示,一种透光率可调的航天飞机用机窗玻璃,包括基片1,所述基片1的外表面上由内而外依次设有底层ITO透明导电层2、W2O5电致变色层3、VO2离子导电层4、NiCrOX离子储存层5、以及顶层ITO透明导电层6。
进一步地,所述基片1是厚度为15mm的耐压透明树脂。在所述基片1外表面镀膜前,基片1首先在丙酮中超声清洗10分钟,然后用乙醇超声清洗10分钟,接着在去离子水中超声清洗10分钟,最后送入磁控溅射系统进行镀膜处理。
再进一步地,所述底层ITO透明导电层2的厚度为300~400nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,在真空镀膜室中,用直流电源溅射铟锡靶、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体,最终在基片1的外表面上制备成氧化铟锡薄膜层。其中,氩氧比为500:500SCCM,保证沉积,压强为0.8Pa,基片1加热到200度以上,溅射功率3~5KW,面电阻10欧以下。
更进一步地,所述W2O5电致变色层3的厚度为100~150nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,用直流电源溅射钨靶、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体制备而成。具体地,氩气流量为1000SCCM,沉积压强为0.8Pa,溅射功率为2~3KW。
又进一步地,所述VO2离子导电层4的厚度为300nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,在真空镀膜室中,用射频电源溅射钒靶、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体制备而成。具体地,通入的氩气气体流量为90sccm,氧气气体流量为10sccm,沉积气压为0.8Pa,溅射功率为2KW。该层起到离子导电层的作用,它是在电场作用下通过离子的注入和抽出,实现对太阳光吸收率的调节作用,进而可以调节材料对光的透射、反射、表面热辐射等性能。
再进一步地,所述NiCrOX离子储存层5的厚度为1nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,用直流电源溅射镍铬合金靶、用氩气作为溅射气体、掺入少量氧气制备而成,其中,氩氧比为:(400SCCM~420SCCM):(20~40SCCM)。
更进一步地,所述顶层ITO透明导电层6的厚度为80~90nm。其采用磁控溅射镀膜工艺,在真空镀膜室中,用直流电源溅射铟锡靶、以氩气为溅射气体、氧气作反应气体,最终制备而成。其中,沉积压强为0.8Pa,基片1加热到200度以上,溅射功率2.5KW,面电阻10欧以下。
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