[发明专利]一种特殊膜系的绿色三银LOW-E玻璃

说明书

技术领域：

本发明涉及一种特殊膜系的绿色三银LOW-E玻璃。

背景技术：

LOW-E玻璃，是一种高端的低辐射玻璃，是在玻璃基材表面镀制包括银层在内的多层金属及其它化合物组成的膜系产品，具有节能减排及装饰幕墙的双重功效。

而绿色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种，深受人们喜爱。随着节能指标要求越来越严，在很多城市双银LOW-E玻璃都已无法满足客户需求，再加上设计师对绿色产品的热宠，绿色三银LOW-E玻璃的市场需求庞大。但目前大多数厂家生产绿色三银LOW-E玻璃均采用绿色原片作为基底，生产成本较高。

故有必要对现有的产品作出改进，以提供一种成本较低的绿色三银LOW-E玻璃。

发明内容：

本发明的目的在于提供一种特殊膜系的绿色三银LOW-E玻璃，其结构简单，成本较低。

一种特殊膜系的绿色三银LOW-E玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材为白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次设有Si₃N₄底层介质层、TiOx介质层、第一Ag层、第一NiCrOx膜层、第一ZnSnO₃介质层、第一ZnO膜层、第二Ag层、第二NiCrOx膜层、第二ZnSnO₃介质层、第二ZnO膜层、第三Ag层、NiCr膜层、第三ZnSnO₃介质层、以及Si₃N₄顶层介质层。

本发明可通过如下方案进行改进：

所述Si₃N₄底层介质层的厚度为8.8nm。

所述TiOx介质层的厚度为6.8nm。

所述第一Ag层的厚度为6.7nm，所述第二Ag层的厚度为12.7nm，所述第三Ag层的厚度为10.6nm。

所述第一NiCrOx膜层的厚度为1.2nm，所述第二NiCrOx膜层的厚度为1nm。

所述第一ZnSnO₃介质层的厚度为20.7nm，所述第二ZnSnO₃介质层的厚度为62.4nm，所述第三ZnSnO₃介质层的厚度为18nm。

所述第一ZnO膜层的厚度为32.7nm，所述第二ZnO膜层的厚度为28.8nm。

所述NiCr膜层的厚度为1nm。

所述Si₃N₄顶层介质层的厚度为17nm

本发明具有如下优点：1、本发明结构简单，创造性地采用普通白色浮法玻璃作为玻璃基材，制造的绿色三银LOW-E玻璃，生产成本下降20％以上，成本较低。2、具有比传统LOW-E玻璃更低的辐射率，辐射率仅0.02，节能效果显著。

附图说明：

图1为本发明结构剖视图。

具体实施方式：

如图所示，一种特殊膜系的绿色三银LOW-E玻璃，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1为白色浮法玻璃，其上表面由下而上依次设有Si₃N₄底层介质层2、TiOx介质层3、第一Ag层4、第一NiCrOx膜层5、第一ZnSnO₃介质层6、第一ZnO膜层7、第二Ag层8、第二NiCrOx膜层9、第二ZnSnO₃介质层10、第二ZnO膜层11、第三Ag层12、NiCr膜层13、第三ZnSnO₃介质层14、以及Si₃N₄顶层介质层15。

所述Si₃N₄底层介质层2的厚度为8.8nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、以氩气为溅射气体、氮气作反应气体溅射硅铝靶(硅铝比为92:8)制备而成，其中，氩氮比为(400SCCM～420SCCM)：(450SCCM～500SCCM)，氩氮比是该膜层的核心，决定了成膜的质量。

所述TiOx介质层3的厚度为6.8nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用中频交流电源溅射陶瓷陶瓷钛靶、用氩气作为溅射气体、掺入少量氧气制备而成,其中，氩氧比为：(400SCCM～420SCCM):(20～40SCCM)。

所述第一Ag层4的厚度为6.7nm，为功能层。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射银靶、氩气作为溅射气体制备而成，气体流量500～550SCCM。