[发明专利]一种纳米基站的跟踪区TA规划方法及设备有效

专利信息
申请号: 201410602690.8 申请日: 2014-10-31
公开(公告)号: CN105636065B 公开(公告)日: 2019-04-30
发明(设计)人: 师晓卉 申请(专利权)人: 中国移动通信集团公司
主分类号: H04W16/18 分类号: H04W16/18;H04W8/16
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100032 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 基站 跟踪 ta 规划 方法 设备
【说明书】:

发明公开了一种纳米基站的跟踪区TA规划方法及设备,该方法包括:针对任一待规划纳米基站,确定所述待规划纳米基站所归属的LA,并确定所述LA内的各宏基站所归属的TA;以及根据确定的所述LA内的各宏基站所归属的TA,为所述待规划纳米基站分配与所述LA内的各宏基站所归属的TA不同的TA作为所述待规划纳米基站所归属的TA。也就是说,在本发明所述技术方案中,分配给纳米基站的TA是与宏基站所归属的TA不同的TA,使得MME发送的属于宏基站的寻呼不必再到达纳米基站网关,从而减少了纳米基站网关的寻呼消息量,降低了纳米基站网关的处理压力。

技术领域

本发明涉及通信技术领域,尤其涉及一种Nanocell(纳米基站)的TA(TrackingArea,跟踪区)规划方法及设备。

背景技术

目前,在进行Nanocell的TA规划时,为了减少Nanocell和宏基站之间的TA更新,并且方便支持CSFB(Circuit Switched Fallback,电路域回落),通常为Nanocell分配和相应宏基站相同的TA,即,宏基站周围或者宏基站覆盖范围内的Nanocell使用和宏基站相同的TA。

但是,当Nanocell设备进行大规模部署时,若仍采用上述为Nanocell分配和相应宏基站相同的TA的方案,则会存在Nanocell GW(GateWay,网关)的寻呼消息多、压力大等问题。这是因为:

MME(Mobility Management Entity,移动管理实体)不能避免发送不属于Nanocell的寻呼,且由于Nanocell和宏基站使用相同的TA,因此导致Nanocell GW将会接收到大量的寻呼。例如:若某省的每个市都部署有一台Nanocell,那么Nanocell GW会共有全省的TA,使得全省的寻呼都会到达Nanocell GW,进而会极大地增加Nanocell GW的压力,使得对于Nanocell GW的性能要求可能要高于MME。

因此,亟需提供一种新的Nanocell的TA规划方案,来解决当Nanocell设备进行大规模部署时,为Nanocell分配和相应宏基站相同的TA所会导致的Nanocell GW的寻呼消息多、压力大的问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种纳米基站的TA规划方法及设备,用以解决当Nanocell设备进行大规模部署时,为Nanocell分配和相应宏基站相同的TA所会导致的Nanocell GW的寻呼消息多、压力大的问题。

本发明实施例提供了一种纳米基站的TA规划方法,包括:

针对任一待规划纳米基站,确定所述待规划纳米基站所归属的LA(LocationArea,位置区),并确定所述LA内的各宏基站所归属的TA;以及,

根据确定的所述LA内的各宏基站所归属的TA,为所述待规划纳米基站分配与所述LA内的各宏基站所归属的TA不同的TA作为所述待规划纳米基站所归属的TA。

进一步地,在为所述待规划纳米基站分配与所述LA内的各宏基站所归属的TA不同的TA作为所述待规划纳米基站所归属的TA之后,所述方法还包括:

将用于唯一标识所述待规划纳米基站所归属的TA的TA标识存储到与所述LA相对应的TA列表中;其中,与所述LA相对应的TA列表中包含有用于唯一标识所述LA内的各宏基站所归属的TA的TA标识。

进一步地,针对任一LA,为所述LA内的各待规划纳米基站所分配的TA相互相同。

进一步地,针对任意两个待规划纳米基站,当所述任意两个待规划纳米基站所归属的LA不同时,为所述任意两个待规划纳米基站所分配的TA互不相同。

进一步地,所述方法还包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国移动通信集团公司,未经中国移动通信集团公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410602690.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top