[发明专利]表面生长式光合微生物培养单元、培养系统及培养方法无效

专利信息
申请号: 201410602029.7 申请日: 2014-10-30
公开(公告)号: CN104328032A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 胡强 申请(专利权)人: 国家开发投资公司;中国电子工程设计院
主分类号: C12M1/00 分类号: C12M1/00;C12M1/34;C12M1/04;C12N1/12;C12N1/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王小京
地址: 100034 北京市西*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 生长 光合 微生物 培养 单元 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,该培养单元包括:

至少一个多孔板,所述多孔板是由刚性的吸水渗水材料制成,其表面用于附着光合微生物;

至少一个供液装置,所述供液装置用于向所述多孔板提供光合微生物生长所需的培养液,所述培养液被所述的多孔板吸收并渗透至该多孔板的表面;

至少一个培养液回收装置,所述培养液回收装置设于所述多孔板下端,以将各多孔板下端渗出或未被多孔板吸收的培养液收集。

2.根据权利要求1所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述多孔板为透水陶瓷板、水泥板、青砖板、红砖板、陶土制成板或瓦板。

3.根据权利要求1所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述多孔板是由基质材料和添加剂制成的硬质多孔板,其中,所述添加剂包括粘结剂,所述基质材料为分子筛、玻璃粉、玻璃砂或青石。

4.根据权利要求3所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述粘结剂包含铝石。

5.根据权利要求4所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述粘结剂还包含田菁粉和硝酸。

6.根据权利要求3或4所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述分子筛具有~2nm的第一孔径。

7.根据权利要求3所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述多孔板包含分子筛和铝石,其中所述分子筛为50-90质量份,铝石为5-45质量份。

8.根据权利要求3所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述多孔板包含分子筛、铝石、田菁粉和硝酸,其中所述分子筛为60-80质量份,铝石为15-35质量份,田菁粉为1-4质量份,硝酸为1-4质量份。

9.根据权利要求3或4所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述多孔板具有3~40μm的第二孔径。

10.根据权利要求1所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述多孔板的表面呈凹凸不平状,其包括规则或不规则图案。

11.根据权利要求1所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述供液装置系罩设于所述多孔板的顶端侧缘。

12.根据权利要求1所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述供液装置以间隔方式设于该多孔板的顶端上方位置,所述供液装置以喷淋、滴漏或渗漏的方式给该多孔板提供培养液。

13.根据权利要求1所述的表面生长式光合微生物培养单元,其特征是,所述培养单元还包括至少一个固定装置,该固定装置用于将所述多孔板以直立的方式固定于一个预定位置。

14.一种表面生长式培养系统,该培养系统包括:

一个由权利要求1-13任一项所述的培养单元所组成的阵列,以及

用于向所述阵列中的培养单元的供液装置提供培养液的培养液供给装置;

其中,所述培养液供给装置包括培养液池、循环动力装置,该循环动力装置与各该供液装置连接,以将该培养液池内的培养液输送至各该供液装置。

15.根据权利要求14所述的表面生长式培养系统,其特征是,所述循环动力装置为泵。

16.根据权利要求14所述的表面生长式培养系统,其特征是,所述培养液供给装置还包括一个二氧化碳的混入装置,所述混入装置将二氧化碳混入至所述的培养液培养池中。

17.根据权利要求14所述的表面生长式培养系统,其特征是,所述循环动力装置包括压力罐和空气压缩气源,所述培养液池以管路连接至该压力罐的进液口,所述培养液池能够将一定量的培养液输入该压力罐内暂存,所述压力罐的出液口通过管路与各该供液装置连接,该空气压缩气源连接该压力罐的进气口,通过启动该空气压缩气源工作向该压力罐内增压,以该压力罐内暂存的培养液输送至各该供液装置。

18.根据权利要求17所述的表面生长式培养系统,其特征是,所述压力罐的一侧设有一个通向外界的排气阀,该培养液池连接至该压力罐之间的管路上设有第一截止阀,该空气压缩气源连接至该压力罐之间的管路上设有第二截止阀和一个减压阀。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家开发投资公司;中国电子工程设计院,未经国家开发投资公司;中国电子工程设计院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410602029.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top