[发明专利]反射式偏振片及其制备方法、液晶显示装置

权利要求书

1.一种反射式偏振片的制备方法，其特征在于，包括：

在第一基板上形成能够吸收紫外光的透明染料薄膜；

将形成有所述透明染料薄膜的第一基板与第二基板进行对盒形成液晶器件，所述第一基板与所述第二基板之间形成有至少包括液晶性可聚合单体、小分子向列相液晶和光引发剂的液晶层；

对所述液晶器件进行热处理；

对热处理后的所述液晶器件进行紫外光辐照，得到反射式偏振片。

2.根据权利要求1所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述在第一基板上形成能够吸收紫外光的透明染料薄膜包括：

在所述第一基板上对能够吸收紫外光的粉末状染料进行压片形成所述透明染料薄膜；或

将能够吸收紫外光的粉末状染料溶于有机溶剂中形成染料溶液，将所述染料溶液涂覆在所述第一基板上，利用溶剂挥发法形成所述透明染料薄膜。

3.根据权利要求1或2所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述透明染料薄膜的厚度为5-40μm。

4.根据权利要求1所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述将形成有所述透明染料薄膜的第一基板与第二基板进行对盒形成液晶器件，所述第一基板与所述第二基板之间形成有至少包括液晶性可聚合单体、小分子向列相液晶和光引发剂的液晶层包括：

将至少包括有液晶性可聚合单体、小分子向列相液晶和光引发剂的液晶混合物涂覆在所述透明染料薄膜上；

将涂覆有所述液晶混合物的第一基板与第二基板进行对盒形成液晶器件。

5.根据权利要求1或4所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述液晶层的厚度为10-100μm。

6.根据权利要求1所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

在所述第一基板与所述第二基板之间设置两个以上高度相同的玻璃微珠，以控制所述第一基板与所述第二基板之间液晶层的厚度。

7.根据权利要求1所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述对所述液晶器件进行热处理包括：

将所述液晶器件放置在加热台上进行加热，其中，所述第一基板与所述加热台相接触，加热时间为20-120min，所述加热台的温度为35-105℃。

8.根据权利要求1所述的反射式偏振片的制备方法，其特征在于，所述对热处理后的所述液晶器件进行紫外光辐照包括：

在所述第一基板与所述第二基板相反一侧对热处理后的所述液晶器件进行紫外光辐照，其中，紫外光辐照时间为15-60min，紫外光波长为365nm，辐照剂量为0.01-2.6mW/cm²。

9.一种反射式偏振片，其特征在于，包括：

第一基板；

与所述第一基板对盒设置的第二基板；

位于所述第一基板与所述第二基板之间的至少包括液晶性可聚合单体、小分子向列相液晶和光引发剂的液晶层，所述液晶层中液晶性可聚合单体的浓度呈梯度分布。

10.根据权利要求9所述的反射式偏振片，其特征在于，所述反射式偏振片还包括：

设置在所述第一基板与所述第二基板之间的两个以上高度相同的玻璃微珠，所述玻璃微珠用于控制所述第一基板与所述第二基板之间液晶层的厚度。

11.一种液晶显示装置，包括阵列基板、平行于所述阵列基板且与所述阵列基板对盒设置的彩膜基板，以及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层，其特征在于，还包括：设置在所述阵列基板上与所述液晶层相反一侧的、以及设置在所述彩膜基板上与所述液晶层相反一侧的如权利要求9或10所述的反射式偏振片。