[发明专利]脱硫水回收系统在审

专利信息
申请号: 201410596342.4 申请日: 2014-10-30
公开(公告)号: CN104324531A 公开(公告)日: 2015-02-04
发明(设计)人: 罗伦远;赵西北;唐世兵;刘胤强 申请(专利权)人: 重庆庆龙精细锶盐化工有限公司
主分类号: B01D21/02 分类号: B01D21/02
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 402550 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 脱硫 回收 系统
【说明书】:

技术领域

本发明属于化工生产技术领域,特别时一种脱硫水回收系统。

背景技术

为了维持脱硫装置浆液循环系统物质的平衡,防止烟气中可溶部分即氯浓度超过规定值和保证石膏质量,必须从系统中排放一定量的脱硫废水,脱硫废水主要来自石膏脱水和清洗系统。脱硫废水中含有的杂质主要包括碳酸锶、过饱和的亚硫酸盐、硫酸盐以及重金属,其中很多是国家环保标准中要求严格控制的第一类污染物。而脱硫废水的直接排放会严重的危害到生态环境,因此,怎么处理排出的大量脱硫废水成为一个亟待解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种结构合理的脱硫水回收系统,它能将澄清后的脱硫水重新引流到浸取工序再利用,降低碳酸锶溶液中的含水量,为脱硫水中小粒径碳酸锶的回收工序做准备。

本发明的目的是通过这样的技术方案实现的,它包括至少两个沉降槽、进水管和排水管,所述沉降槽的高度依次降低,所述进水管通入高度最高的沉降槽顶端,所述排水管通入高度最低的沉降槽顶端,所述排水管设置有阀门,每两个相邻的沉降槽通过第一管道连接,所述第一管道通入沉降槽顶端,所述沉降槽的底部连通到第二管道,所述第二管道的末端设置有泵。

本发明包括有至少两个高度依次降低的沉降槽,并且每两个相邻的沉降槽通过第一管道连接。脱硫水经过进水管进入到高度最高的沉降槽,当此沉降槽内的脱硫水快满时,脱硫水通过第一管道流入下一个沉降槽。同理当该沉降槽内的脱硫水快满时,脱硫水通过第一管道流入下一个沉降槽。最终,脱硫水流入高度最低的沉降槽。当此沉降槽内的脱硫水快满时,脱硫水通过排水管流入到浸取工序再利用。由于采用了多级沉降槽对脱硫水进行澄清,因此,流入到浸取工序的脱硫水中所含杂质较少,符合工艺要求。当高度最低的沉降槽内的脱硫水不再流动后,关闭设置在排水管上的阀门,同时打开泵,将多个沉降槽内的脱硫水压回到进水管。由于沉降槽内通过排水管排出了一部分经澄清后的脱硫水,因此所述沉降槽内的脱硫水中的含水量较进入系统之前的含水量低,利用碳酸锶的回收。因此,将沉降槽内的脱硫水压回到进水管,为脱硫水中小粒径碳酸锶的回收工序做准备。

进一步,所述沉降槽的数量为3个。

由于采用了上述技术方案,本发明具有结构合理的优点,它能将澄清后的脱硫水重新引流到浸取工序再利用,也能降低碳酸锶溶液中的含水量,为脱硫水中小粒径碳酸锶的回收工序做准备。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图中,1、沉降槽;2、进水管;3、排水管;4、泵;5、阀门;6、第一管道;7、第二管道。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。

如图1所示,本发明包括至少两个沉降槽1、进水管2和排水管3,所述沉降槽1的高度依次降低,所述进水管2通入高度最高的沉降槽1顶端,所述排水管3通入高度最低的沉降槽1顶端,所述排水管3设置有阀门5,每两个相邻的沉降槽1通过第一管道6连接,所述第一管道6通入沉降槽1顶端,所述沉降槽1的底部连通到第二管道7,所述第二管道7的末端设置有泵4。

本发明包括有至少两个高度依次降低的沉降槽1,并且每两个相邻的沉降槽1通过第一管道6连接。脱硫水经过进水管2进入到高度最高的沉降槽1,当此沉降槽1内的脱硫水快满时,脱硫水通过第一管道6流入下一个沉降槽1。同理当该沉降槽1内的脱硫水快满时,脱硫水通过第一管道6流入下一个沉降槽1。最终,脱硫水流入高度最低的沉降槽1。当此沉降槽1内的脱硫水快满时,脱硫水通过排水管3流入到浸取工序再利用。由于采用了多级沉降槽1对脱硫水进行澄清,因此,流入到浸取工序的脱硫水中所含杂质较少,符合工艺要求。当高度最低的沉降槽1内的脱硫水不再流动后,关闭设置在排水管3上的阀门5,同时打开泵4,将多个沉降槽1内的脱硫水压回到进水管2。由于沉降槽1内通过排水管3排出了一部分经澄清后的脱硫水,因此所述沉降槽1内的脱硫水中的含水量较进入系统之前的含水量低,利用碳酸锶的回收。因此,将沉降槽1内的脱硫水压回到进水管2,为脱硫水中小粒径碳酸锶的回收工序做准备。

如图1所示,所述沉降槽1的数量为3个。

以上仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构,直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理在本发明的专利保护范围之内。

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