[发明专利]成像光谱仪自适应调整曝光时间的方法及装置

权利要求书

1.一种成像光谱仪自适应调整曝光时间的方法，其特征在于，该方法包括：

获取当前场景下的光谱图像；

读取该光谱图像各个像元的亮度值DN值；

判断所有DN值中的最大值DN_max与2^Q-1的大小，其中，Q表示像元分辨率位数；

若DN_max＜2^Q-1，则逐步增加曝光时间，直至DN_max值第一次达到DN_max＝2^Q-1，并将对应的曝光时间作为当前场景下的最佳曝光时间；若DN_max＝2^Q-1，则逐步减小曝光时间，直至DN_max值第一次达到DN_max＝2^Q-2后，再逐步增加曝光时间，直至DN_max值第一次达到DN_max＝2^Q-1，并将对应的曝光时间作为当前场景下的最佳曝光时间。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的逐步增加曝光时间与逐步减小曝光时间包括：

逐步增加曝光时间包括：计算最大值DN_max与2^Q-1的差值：ΔDN＝|(2^Q-1)-DN_max|；若该差值ΔDN大于阈值，则加大曝光时间的调整步长；否则，减小曝光时间的调整步长；

逐步减小曝光时间包括：获取最大DN_max值DN_max＝2^Q-1的个数n，若n大于阈值，则加大曝光时间的调整步长；否则，减小曝光时间的调整步长。

3.一种成像光谱仪自适应调整曝光时间的装置，其特征在于，该装置包括：

光谱图像获取模块，用于获取当前场景下的光谱图像；

DN值读取模块，用于读取该光谱图像各个像元的亮度值DN值；

判断模块，用于判断所有DN值中的最大值DN_max与2^Q-1的大小，其中，Q表示像元分辨率位数；

曝光时间自适应调整模块，用于当DN_max＜2^Q-1时，逐步增加曝光时间，直至DN_max值第一次达到DN_max＝2^Q-1；以及，当DN_max＝2^Q-1时，逐步减小曝光时间，直至DN_max值第一次达到DN_max＝2^Q-2后，再逐步增加曝光时间，直至DN_max值第一次达到DN_max＝2^Q-1；

最佳曝光时间确定模块，用于将调整曝光时间后，DN_max＝2^Q-1时对应的曝光时间作为当前场景下的最佳曝光时间。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述的逐步增加曝光时间与逐步减小曝光时间包括：

逐步增加曝光时间包括：计算最大值DN_max与2^Q-1的差值：ΔDN＝|(2^Q-1)-DN_max|；若该差值ΔDN大于阈值，则加大曝光时间的调整步长；否则，减小曝光时间的调整步长；

逐步减小曝光时间包括：获取最大DN_max值DN_max＝2^Q-1的个数n，若n大于阈值，则加大曝光时间的调整步长；否则，减小曝光时间的调整步长。