[发明专利]闸阀装置和等离子体处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及例如在真空条件下处理基板的等离子体处理装置中，用于使进行基板的搬入搬出的闸门开口部开闭的闸阀装置和具备该闸阀装置的等离子体处理装置。

背景技术

为了对FPD(平板显示器)用的玻璃基板等被处理基板在真空条件下进行等离子体蚀刻、等离子体灰化、等离子体成膜等处理，使用等离子体处理装置。等离子体处理装置例如能够构成为具备对基板进行处理的处理模块、收纳有进行向处理模块搬入基板和从处理模块搬出基板的搬送装置的搬送模块、和设置在处理模块与搬送模块之间的闸阀装置等的真空处理系统的一部分。

处理模块具有用于在搬入或搬出基板时使基板通过的开口部。设置在处理模块与搬送模块之间的闸阀装置具有使处理模块的开口部开闭的阀体。通过由该阀体关闭处理模块的开口部，处理模块被气密地密封。

在处理模块内进行处理时，处理模块的开口部由闸阀装置的阀体关闭。在该状态下，金属制的阀体的表面的一部分在处理模块内空间中露出。另外，由于在阀体与处理模块之间，存在有由绝缘性的弹性体等构成的密封部件，所以阀体与处理模块成为电位上独立的状态。因此，如果在处理模块中导入高频使等离子体生成，则阀体被高频充电，会有在阀体的附近产生局部的等离子体或异常放电等问题。

在专利文献1中，为了实现闸阀装置的阀体与处理模块之间的导通，提出了配备导电性的密封部件的方案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009－252635号公报

发明内容

发明想要解决的技术问题

作为专利文献1所记载的导电性的密封部件，通常使用不锈钢制的螺旋屏蔽件。另一方面，在闸阀装置的阀体或处理模块的容器(处理容器)中通常使用铝。其结果，在螺旋屏蔽件与阀体或处理容器之间产生异种金属间的接触。特别是由于阀体为可动部件，所以在反复异种金属间的接触和离开的期间，由异种金属接触腐食引起的化学性的损害、或因硬度不同造成的物理性的损害等，成为对阀体或处理容器造成损伤从而需要更换等的维护，或者产生金属颗粒的原因。

本发明是鉴于这样的问题而完成的，其目的在于提供一种闸阀装置，其能够确保阀体和处理容器的导通，并且降低阀体和处理容器的损伤，抑制金属颗粒的产生。

用于解决技术课题的技术方案

本发明的闸阀装置是配置在具有用于将被处理基板搬入处理容器内和从上述处理容器内搬出上述被处理基板的开口部、利用在上述处理容器内生成的等离子体对上述被处理基板实施等离子体处理的等离子体处理装置中的闸阀装置。

本发明的闸阀装置具备用于开闭上述开口部的阀体。

本发明的闸阀装置具备阀体移动机构，其使上述阀体移动来通过上述阀体开闭上述开口部。

本发明的闸阀装置具备导电性的阀座部件，其为具有开口的框状，安装于上述处理容器中的上述开口部的周围的壁，在通过上述阀体将上述开口部关闭了的状态下介于上述阀体与上述处理容器之间。

本发明的闸阀装置具备第一气密密封部件，其在通过上述阀体将上述开口部关闭了的状态下，介于上述阀体与阀座部件之间而将它们之间气密地密封。

本发明的闸阀装置具备第一导电性部件，其在通过上述阀体将上述开口部关闭了的状态下，介于上述阀体与阀座部件之间而将它们之间电连接。

本发明的闸阀装置具备第二气密密封部件，其设置成包围上述开口部，介于上述阀座部件与上述处理容器之间而将它们之间气密地密封。

本发明的闸阀装置具备第二导电性部件，其设置成包围上述开口部，介于上述阀座部件与上述处理容器之间而将它们之间电连接。

在本发明的第一方面中，在闸阀装置中，上述第一导电性部件和上述阀座部件由相同材料形成。

在本发明的第二方面中，上述阀体包括：主体部；和由与该主体部不同的导电性材料构成的，与上述第一导电性部件抵接的第一抵接部。而且，在本发明的第二方面中，上述第一导电性部件、上述第一抵接部和上述阀座部件由相同材料形成。

在本发明的第三方面中，上述阀体包括：主体部；和由与该主体部不同的导电性材料构成的，与上述第一导电性部件抵接的第一抵接部。另外，在本发明的第三方面中，上述阀座部件包括：阀座主体；和由与该阀座主体不同的导电性材料构成的，与上述第一导电性部件抵接的第二抵接部。而且，在本发明的第三方面中，上述第一导电性部件、上述第一抵接部和上述第二抵接部由相同材料形成。

本发明的闸阀装中，上述第二导电性部件也可以由与上述第一导电性部件相同的材料形成。