[发明专利]吸移部件的位置调整方法及样本处理装置在审

专利信息
申请号: 201410561031.4 申请日: 2014-10-21
公开(公告)号: CN104596796A 公开(公告)日: 2015-05-06
发明(设计)人: 奥山健雄;朝田祥一郎;平田典;浅尾和毅 申请(专利权)人: 希森美康株式会社
主分类号: G01N1/10 分类号: G01N1/10
代理公司: 北京市安伦律师事务所 11339 代理人: 杨永波
地址: 日本兵库县神户市*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 部件 位置 调整 方法 样本 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种用于具有从容器吸移样本或试剂的吸移部件以及针对所述吸移部件设置的电容传感器的样本处理装置中的吸移部件的位置调整方法,包括以下步骤:

在配置于一定位置的、具有导电性的位置调整部件上方移动所述吸移部件;

获取移动所述吸移部件期间所述电容传感器检测到的电容;

根据获取的电容的变化,设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

2. 一种样本处理装置,包括:

从收纳液体的容器吸移液体的吸移部件;

针对所述吸移部件设置的电容传感器;

移动所述吸移部件的移动构件;以及

控制部件;

所述控制部件根据所述吸移部件在配置于一定位置的、具有导电性的位置调整部件上方移动期间所述电容传感器检测到的电容变化,设定表示所述吸移部件的基准位置的基准位置信息。

3. 根据权利要求2所述的样本处理装置,其特征在于:

还包括能够放置收纳液体的容器的容器设置部件;

所述容器设置部件能够装上或拆下所述位置调整部件;

所述控制部件根据所述吸移部件在安装在所述容器设置部件的所述位置调整部件上方移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化,设定所述基准位置信息。

4. 根据权利要求2所述的样本处理装置,其特征在于:

将所述电容传感器置于所述位置调整部件的相当于所述基准位置的部位上方时所述电容传感器检测到的电容与将所述电容传感器置于所述位置调整部件的其他部位上方时所述电容传感器检测到的电容不同。

5. 根据权利要求2所述的样本处理装置,其特征在于:

所述位置调整部件具有从平坦的上面的一部分突出出来的突出部件,所述突出部件相当于所述基准位置。

6. 根据权利要求2所述的样本处理装置,其特征在于:

所述电容传感器能够检测出液面接触所述吸移部件时的电容的变化。

7. 根据权利要求2所述的样本处理装置,其特征在于:

所述控制部件控制所述移动构件使所述吸移部件在所述位置调整部件上方在第一水平方向移动,根据所述吸移部件在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化,确定所述基准位置的第一水平方向分量值;

再控制所述移动构件使所述吸移部件在所述位置调整部件上方在与所述第一水平方向交叉的第二水平方向移动,根据所述吸移部件在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容的变化,确定所述基准位置的第二水平方向分量值;

将确定的所述第一水平方向分量值和所述第二水平方向分量值设定为所述基准位置信息。

8. 根据权利要求7所述的样本处理装置,其特征在于:

所述控制部件控制所述移动构件,使所述吸移部件在所述位置调整部件上方一边改变所述第二水平方向的位置,一边数次在所述第一水平方向移动,根据所述吸移部件数次在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容变化,确定所述基准位置的第一水平方向分量值;

所述控制部件控制所述移动构件,使所述吸移部件在所述位置调整部件上方一边改变所述第一水平方向的位置,一边数次在所述第二水平方向移动,根据所述吸移部件数次在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测到的电容变化,确定所述基准位置的第二水平方向分量值。

9. 根据权利要求8所述的样本处理装置,其特征在于:

所述控制部件在所述第一水平方向的数个位置分别累加所述吸移部件数次在所述第一水平方向移动期间所述电容传感器检测出的电容,根据各累加值,确定所述基准位置的第一水平方向分量值,

所述控制部件在所述第二水平方向的数个位置分别累加所述吸移部件数次在所述第二水平方向移动期间所述电容传感器检测出的电容,根据各累加值,确定所述基准位置的第二水平方向分量值。

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