[发明专利]光取向处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及在液晶显示元件的制造中使用的光取向处理装置，此外详细地讲，涉及在通过紫外线照射进行的取向膜的光取向处理中使用的光取向处理装置。

背景技术

以往，在液晶显示元件中，通过电场等的作用使液晶的分子排列的状态变化，并在光学上利用该变化而应用到显示中。为了使液晶在特定的方向上排列而实施取向处理，但近年来，进行了对取向膜照射偏振紫外线而进行取向处理的光取向处理。

以往的光取向处理装置1如图5所示，使载置着在其表面形成有取向膜的基板S的基板支承体7在基台3上，例如通过线性马达等的周知的驱动机构向箭头MD的方向行驶固定于基台3上的由光源和偏振板构成的紫外线照射装置9之下。结果，对在紫外线照射装置9的下方被输送的基板S照射紫外线而进行取向处理。

在以往的光取向处理装置中，由于不能对基板连续地进行取向处理，所以作为对1个基板进行取向处理所需要的时间的节拍时间较长，所以有生产性较低的问题。

所以，提出了具备两个基板支承体(台)的光取向处理装置(例如，参照专利文献1)。这样的光取向处理装置与图5所示的仅具有1个基板支承体的光取向处理装置相比，能够一边在一个基板支承体上对基板进行光取向处理，一边在另一个基板支承体上进行基板的更换作业，所以节拍时间缩短。

但是，在这样具备两个基板支承体的光取向处理装置中，如专利文献1的图6所示，至少需要5个台位置。结果，在隔着紫外线照射装置(照射单元)的光取向处理装置的两侧需要两个基板支承体的空间。因此，专利文献1所公开的光取向处理装置为非常长的装置。

专利文献1：日本专利第5344105号公报

发明内容

所以，本发明的目的是提供一种在光取向处理装置中通过缩小装置的设置面积并进一步缩短节拍时间来提高吞吐量(生产量)的光取向处理装置。

为了达到上述目的，本发明提供一种光取向处理装置，通过对构成液晶显示元件的基板上形成的取向膜照射紫外线，对上述取向膜进行取向处理，具备：多个基板支承体，支承上述基板；行驶机构，使各个上述基板支承体沿着相同的行驶路径行驶；紫外线照射装置，对由沿着上述行驶路径行驶的上述基板支承体支承的上述基板照射紫外线；以及退避机构，使上述基板支承体从上述行驶路径退避，以免行驶中的上述基板支承体彼此碰撞。

发明效果

根据本发明，通过上述退避机构，由于能够对基板几乎连续地进行光取向处理，所以能够提供一种缩小装置的设置面积并提高吞吐量的光取向处理装置。

附图说明

图1是有关本发明的实施方式的光取向处理装置的立体图。

图2是图1的光取向处理装置的侧视图。

图3是说明图1的光取向处理装置的取向处理的顺序的概略俯视图。

图4是说明图1的光取向处理装置的取向处理的顺序的概略纵截面图。

图5是以往的光取向处理装置的立体图。

附图标记说明

1光取向处理装置

5行驶机构

7、7’、7”基板支承体

9紫外线照射装置

11升降装置(退避机构)

RR行驶路径

S基板

具体实施方式

以下，参照图1及图2对有关本发明的实施方式的光取向处理装置的结构进行说明。参照图1及图2，光取向处理装置1具备分别在大致相同方向上延伸而设置的两个基台3、以及在基台3的相互对置的侧面3S安装成例如通过线性马达等的周知的驱动机构能够在光取向处理装置1的长度方向DL上行驶的行驶机构5。

具体而言，行驶机构5可滑动地安装于从侧面3S突出且沿着光取向处理装置1的长度方向DL延伸的各两个突出部3P。

光取向处理装置1还在基台3彼此之间具备支承基板S的两个基板支承体7。基板支承体7由与各个行驶机构5连接的底部7B、以及安装在底部7B上且上表面在大致水平方向上展开的台7S构成。

在本实施方式中，台7S具有销型的基板保持机构，用于保持基板S的许多销7SP从台7S的上表面突出。此外，优选的是在一部分销7SP的前端形成有与通过真空泵等抽真空的真空线路(line)(未图示)连通的开口(未图示)，能够将载置在销7SP上的基板S真空吸附而保持。