[发明专利]一种双工位研磨机在审
申请号: | 201410548801.1 | 申请日: | 2014-10-17 |
公开(公告)号: | CN104400622A | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | 宋嵩 | 申请(专利权)人: | 成都泰美克晶体技术有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/30 |
代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 袁英 |
地址: | 610017 四川省*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双工 研磨机 | ||
技术领域
本发明涉及用于精磨工件表面的研磨机的技术领域,特别是一种双工位研磨机。
背景技术
目前,市场上的双面研磨机的上、下研磨盘转动是由一台双速电机带动,通过两对可换皮带轮实现四级变速,再经减速箱水平轴上的蜗轮蜗杆副带动下研磨盘的转动,经垂直轴使上研磨盘转动,拨动离合器可使上研磨盘随动或固定。上、下研磨盘转向相反,存在的缺点是:传递环节多,尤其是限于当时的技术条件采用变速箱,导致功率损耗大,下研磨盘所得到的功率常常不能满足使用要求,而且操作相对繁琐。此外,最严重的缺点在于:有级的机械变速,很难满足不同条件下的加工工艺参数要求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种结构紧凑、操作简单、承载能力大、功率损耗小的双工位研磨机。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:一种双工位研磨机,它包括机座和用于安装工件的夹具,所述的机座上设置有立柱、夹具和导轨,立柱上设置有横梁,横梁的底表面上设置有垂直于机座的伺服电机,伺服电机的输出轴上安装有用于研磨工件表面的研磨盘,所述的夹具由油缸I、油缸II、滑块和工作台,油缸I固定安装在机座上,滑块安装在导轨上,油缸I的活塞杆设置在滑块上,油缸II垂直于机座且设置在滑块上,工作台平行于研磨盘且设置在油缸II的活塞杆的顶部。
它还包括PLC控制器,PLC控制器与油缸I、油缸II和伺服电机连接。
所述的工作台上设置有用于装夹工件的安装孔。
所述的横梁垂直于立柱设置。
本发明具有以下优点:(1)本发明的研磨盘从与工件接触到研磨工件,期间没有减速箱和多级传动,从而降低了整个系统的功率损耗,工件表面的研磨精度。(2)本发明的油缸I、油缸II和伺服电机均由PLC控制器控制,无需人为进行调整和操作,从而节省了工人的劳动强度,提高了生产效率。(3)工件是放置在工作台上的,而工作台又放置在滑块上的,滑块与导轨的配合增大了工作台的承载能力,因此,该研磨机能够研磨重量较大的工件,具有承载能力大的特点。
附图说明
图1 为本发明的结构示意图;
图2 为本发明的工作示意图;
图中,1-机座,2-立柱,3-导轨,4-横梁,5-伺服电机,6-研磨盘,7-油缸I,8-油缸II,9-滑块,10-工作台。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的描述,本发明的保护范围不局限于以下所述:
如图1或图2所示,一种双工位研磨机,它包括机座1和用于安装工件的夹具,所述的机座1上设置有立柱2、夹具和导轨3,立柱2上设置有横梁4,横梁4垂直于立柱2设置,横梁4的底表面上设置有垂直于机座1的伺服电机5,伺服电机5的输出轴上安装有用于研磨工件表面的研磨盘6。如图1或图2所示,夹具由油缸I7、油缸II8、滑块9和工作台10,油缸I7固定安装在机座1上,滑块9安装在导轨3上,油缸I7的活塞杆设置在滑块9上,滑块9与导轨3的配合增大了工作台10的承载能力,使该装置能够研磨重量大的工件。如图1或图2所示,油缸II8垂直于机座1且设置在滑块9上,工作台10平行于研磨盘6且设置在油缸II8的活塞杆的顶部,工作台10上设置有用于装夹工件的安装孔。
它还包括PLC控制器,PLC控制器与油缸I7、油缸II8和伺服电机5连接,员工可通过PLC控制器控制油缸I7和油缸II8的活塞杆的伸出或缩回,同时还能控制伺服电机5的启动或关闭,具有自动化程度高的特点,节省了工人的劳动强度。
本发明的工作过程如下:研磨工件前,先将工件水平装夹在工作台10上,再控制油缸I7的活塞杆伸出,滑块9沿导轨3滑动,当工件表面处于研磨盘6的正下方时,停止油缸I7的运动,同时控制油缸II8的活塞杆伸出,当待研磨工件与研磨盘6接触时,停止油缸II8的运动,随后控制伺服电机5的转动,从而实现了研磨盘6高速研磨工件,由于在整个过程中没有减速箱和多级传动,从而降低了功率损耗,提高了工件表面的研磨精度。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。
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