[发明专利]一种哑光膜真空光学镀膜方法

权利要求书

1.一种哑光膜真空光学镀膜方法，其特征在于：通过如下步骤实现：

S1：把塑胶材料放入真空镀膜设备，并将真空镀膜设备炉内真空压力环境抽至5×10^-3～6×10^-3Pa；

S2：利用真空镀膜设备在塑胶材料上蒸镀或磁控溅射一层纯度为99.99％的厚度为10-200nm的二氧化锆镀层；

S3：利用真空镀膜设备在上述二氧化锆镀层的基础上再蒸镀或磁控溅射一层纯度为99.99％的厚度为10-200nm的二氧化钛镀层，得到整体均匀无色的哑光镀膜；

蒸镀或磁控溅射二氧化钛镀层时需要进行离子辅助，具体是：往真空镀膜设备通入氩气，氩气流量是10-20sccm，阳极电压是100-140V，阳极电流是6-9A，灯丝电流是6-9A；同时通入氧气，通入氩气和氧气后真空镀膜设备内的压力环境保持在1.0×10^-2Pa～2.6×10^-2Pa。

2.根据权利要求1所述的一种哑光膜真空光学镀膜方法，其特征在于：进行上述步骤S2前先在真空镀膜设备内对上述塑胶材料进行高能量等离子表面处理，具体是：通入氩气，氩气流量是10-20sccm，阳极电压是100-140V，阳极电流是6-9A，灯丝电流是6-9A，压力环境保持在1.0×10^-2Pa～1.5×10^-2Pa。