[发明专利]光刻掩模版铬膜厚度测量方法

权利要求书

1.一种光刻掩模版铬膜厚度测量方法，基于一个测量系统，该系统包括：棱镜耦合长程表面等离子共振激 

发结构A和光电发射与信号探测模块B，其特征在于： 

1)棱镜耦合长程表面等离子共振激发结构A，由玻璃棱镜1、匹配液2、玻璃垫圈3、铬膜4、石英玻璃衬底5、基板6、液体进口7、液体出口8等部件组成，其特征在于： 

(1)玻璃垫圈3胶合于玻璃棱镜1的底面，铬膜4沉积在石英玻璃衬底5上； 

(2)石英玻璃衬底5胶合于基板6，其厚度小于玻璃垫圈3，两者之差构成一可输入液体的空腔，该空腔存放折射率与石英玻璃衬底5相同的匹配液2； 

(3)玻璃垫圈3上开两个通孔，分别是液体进口7和液体出口8，匹配液2由液体进口7进入，而废弃匹配液通过液体出口8排出。 

2)光电发射与信号探测模块B，由中红外He-Ne激光器9、偏振镜10和热辐射探测器11等部件组成，其特征在于： 

(4)中红外He-Ne激光器9发射的平行光经过偏振镜10后，成为TM偏振光，并以一定角度入射于玻璃棱镜1的底面； 

(5)反射光投影到光强测量装置一热辐射探测器11； 

(6)在一定角度范围内连续变化激光入射角度，并同时记录反射光强，形成反射率一入射角度曲线，根据长程表面等离子共振衰减全反射吸收峰的位置确定光刻掩模版铬膜的厚度。 

2.根据权利1要求的玻璃棱镜1，其特征在于：玻璃棱镜为三角形棱镜，材料为光学玻璃，其折射率范围为1.60～1.80之间。 

3.根据权利1要求的匹配液2的折射率，其特征在于：必须与石英玻璃衬底5的折射率相同。 

4.根据权利1要求的中红外He-Ne激光器9，其特征在于：波长为λ＝3.391μm。 

5.根据权利1要求的铬膜4厚度测量范围分别确定为5nm～20nm和20nm～100nm两档。 

6.根据权利1要求的玻璃垫圈3与石英玻璃衬底5两者的厚度之差，其特征在于：当铬膜4厚度的测量范围为5nm～20nm时，厚度为40um；当铬膜4厚度的测量范围为20nm～100nm时，厚度为8.5um。 

7.根据权利1要求的铬膜4厚度测量的分辨率，其特征在于：当铬膜4厚度的测量范围为5nm～20nm时，分辨率为0.001°/nm；当铬膜4厚度的测量范围为20nm～100nm时，分辨率为0.003°/nm。