[发明专利]一种多工件台协作直写光刻方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种直写光刻方法，具体是一种多工件台协作直写光刻方法，属于直写式光刻机曝光技术领域。

背景技术

直写式光刻技术是近年来发展较快的、以替代传统的掩膜板式光刻技术的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域中有着越来越重要的地位。该技术可以缩短工艺流程，并降低制造成本。目前市场上的主流直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光。在单工件台系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的。依据目前的结构系统，各操作流程已经达到耗时的上限，很难再缩短某个操作步骤的操作时间，即单工件台的直写式光刻机由于各操作流程的连续性，已很难再提高产能。于是便有了双工件台扫描技术，一个工件台进行扫描曝光，另一个工件台进行上下板、对准等操作，可大幅提高设备产能。

目前采用双工件台设计的直写式光刻机，都是垂直安装方式进行设计的。即两个工件台为上下结构，由于两个工件台在垂直方向上的落差，要求聚焦模块和对准模块必须要上下移动，这样增加了结构设计难度，并且频繁的上下移动，会导致对准精度的降低及增加对准耗时。过于紧凑的上下工件台结构也导致真空系统难于安装，基板本身的翘曲以及工件台在高速运动中所导致的基板移动都会降低曝光品质及良率。

发明内容

针对上述现有技术存在的问题，本发明提供一种多工件台协作直写光刻方法，大幅降低结构的复杂性，使原本按顺序串行进行的曝光流程变为并行的曝光流程，极大地缩短曝光时间，提高曝光品质及生产良率，在保证光刻精度的同时，不会增加任何耗时。

为了实现上述目的，本多工件台协作直写光刻方法所采用的具体步骤如下：

1)、首先对A工件台进行上板、对准操作，完成后将A工件台移动至曝光起始位置进行扫描曝光；

2)、在A工件台进行扫描曝光的同时，对B工件台进行上板、对准操作；

3)、B工件台进行上板、对准操作完成后，将B工件台移动至曝光起始位置，等待扫描曝光；

4)、A工件台完成扫描曝光后，退出A工件台，并对A工件台进行下板、上新板、对准的扫描曝光准备工作，同时开始对B工件台进行扫描曝光流程；

5)、上述步骤循环往复进行，形成整机操作的上下板、对准与扫描曝光流程的同步进行。

进一步，所述A工件台与B工件台并排平行地安装在两个扫描轴上，在曝光过程中分别随各自的扫描轴进行移动，分别完成对准、扫描曝光动作。

与现有的直写光刻方法相比，本多工件台协作直写光刻方法大幅降低了结构的复杂性，两个工件台在各自的工作区域内互不干扰，一个工件台在扫描曝光的过程中，另一个工件台进行上下板、对准等操作流程，使原本按顺序串行进行的曝光流程变为并行的曝光流程，极大地缩短了曝光时间。此外本多工件台协作直写光刻方法提高了曝光品质及生产良率，在保证光刻精度的同时，不会增加任何耗时。

附图说明

图1为本发明的工作流程图；

图2为本发明的一种工作原理图；

图3为本发明的另一种工作原理图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步说明。

如图1所示，本多工件台协作直写光刻方法所采用的具体步骤如下：

1)、首先对A工件台进行上板、对准操作，完成后将A工件台移动至曝光起始位置进行扫描曝光；

2)、在A工件台进行扫描曝光的同时，对B工件台进行上板、对准操作；

3)、B工件台进行上板、对准操作完成后，将B工件台移动至曝光起始位置，等待扫描曝光；

4)、A工件台完成扫描曝光后，退出A工件台，并对A工件台进行下板、上新板、对准的扫描曝光准备工作，同时开始对B工件台进行扫描曝光流程；

5)、上述步骤循环往复进行，形成整机操作的上下板、对准与扫描曝光流程的同步进行。

如图2和图3所示，所述A工件台与B工件台并排平行地安装在两个扫描轴上，在曝光过程中分别随各自的扫描轴进行移动，分别完成对准、扫描曝光动作。所述工作流程循环往复进行，形成乒乓式的作业流程，以达到操作流程并行进行的目的。

如图2所示，当A工件台在进行正常的扫描曝光的同时，B工件台进行前一块基板的下板，当前基板的上板并进行对准准备工作，然后B工件台移动至曝光起始位置等待曝光。

如图3所示，当A工件台曝光完成后，光路系统随步进轴移动至B工件台台面之上，开始对B工件台进行扫描曝光。同时，A工件台退出至安全位置进行下板、上下一块基板、对准等工作，然后移动到曝光起始位置等待曝光。

综上所述，本多工件台协作直写光刻方法大幅降低了结构的复杂性，两个工件台在各自的工作区域内互不干扰，一个工件台在扫描曝光的过程中，另一个工件台进行上下板、对准等操作流程，使原本按顺序串行进行的曝光流程变为并行的曝光流程，极大地缩短了曝光时间。此外本多工件台协作直写光刻方法提高了曝光品质及生产良率，在保证光刻精度的同时，不会增加任何耗时。