[发明专利]用于清洗修整器的清洗装置有效

专利信息
申请号: 201410536152.3 申请日: 2014-10-11
公开(公告)号: CN104384127A 公开(公告)日: 2015-03-04
发明(设计)人: 路新春;许振杰;沈攀 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 黄德海
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 清洗 修整 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于清洗修整器的清洗装置。

背景技术

现有的修整器在使用一段时间后,需要用清洗装置进行清洗。在利用现有的清洗装置清洗修整器时,喷射到修整器上的清洗液会四处溅射,溅射到抛光盘上会造成二次污染。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本发明提出一种用于清洗修整器的清洗装置,所述清洗装置可以防止清洗液溅射到清洗装置外,避免造成二次污染。

修整器包括摆臂和设在所述摆臂上的修整头,根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置包括:基座,所述基座内具有清洗液通道,所述清洗液通道具有进液口;环形的防溅射挡板,所述防溅射挡板设在所述基座上,所述防溅射挡板与所述基座之间形成容纳腔,所述防溅射挡板上设有排液口,其中所述防溅射挡板的形状与所述修整器的形状适配;和喷嘴,所述喷嘴设在所述基座上且位于所述容纳腔内,所述喷嘴与所述清洗液通道连通。

根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置可以防止清洗液溅射到清洗装置外。

另外,根据本发明上述实施例的用于清洗修整器的清洗装置还可以具有如下附加的技术特征:

根据本发明的一个实施例,所述基座包括本体和设在所述本体的下表面上的凸台,其中所述本体内具有所述清洗液通道,所述凸台内具有进液通道,所述进液通道的下端敞开且上端与所述清洗液通道的进液口相连,其中所述本体的上表面上设有与所述清洗液通道连通的安装孔,所述喷嘴安装在所述安装孔内。

根据本发明的一个实施例,所述清洗液通道沿左右方向延伸,所述清洗液通道的左端和右端中的至少一个敞开,其中所述清洗装置进一步包括堵头,所述堵头封堵所述清洗液通道的左端和右端中的所述至少一个。

根据本发明的一个实施例,所述清洗液通道沿左右方向延伸,所述喷嘴为多个,多个所述喷嘴沿左右方向等间距地设置。

根据本发明的一个实施例,所述喷嘴为扇形喷嘴。

根据本发明的一个实施例,所述排液口为多个,多个所述排液口沿所述防溅射挡板的周向间隔开地设置,每个所述排液口的下端敞开。

根据本发明的一个实施例,所述防溅射挡板包括与所述修整头相对的左挡板和与所述摆臂相对的右挡板,所述左挡板的第一右侧沿与所述右挡板的第一左侧沿相连,所述左挡板的第二右侧沿与所述右挡板的第二左侧沿相连,其中所述左挡板的上表面位于所述右挡板的上表面的下方以便形成用于容纳所述修整头的凹部,所述左挡板的形状与所述修整头的形状适配,所述左挡板的轮廓大于所述修整头的轮廓,所述防溅射挡板的形状与所述摆臂的形状适配,所述防溅射挡板的轮廓大于所述摆臂的与所述防溅射挡板相对的部分的轮廓。

根据本发明的一个实施例,所述左挡板位于所述修整头的下方,所述左挡板与所述修整头在上下方向上的间距小于等于20毫米,所述右挡板位于所述摆臂的下方,所述右挡板与所述摆臂在上下方向上的间距小于等于20毫米。

根据本发明的一个实施例,所述修整头的边沿位于所述左挡板的内沿的内侧,所述修整头的边沿与所述左挡板的内沿的间距小于等于5毫米,所述摆臂的边沿位于所述防溅射挡板的内沿的内侧,所述摆臂的边沿与所述防溅射挡板的内沿的间距小于等于5毫米。

根据本发明的一个实施例,所述左挡板包括半圆形板、第一前板和第一后板,所述第一前板的左侧沿与所述半圆形板的前端相连,所述第一后板的左侧沿与所述半圆形板的后端相连,

所述右挡板包括第二前板、第二后板和右侧板,所述第二前板的左侧沿与所述第一前板的右侧沿相连且右侧沿与所述右侧板的前沿相连,所述第二后板的左侧沿与所述第一后板的右侧沿相连且右侧沿与所述右侧板的后沿相连,所述右侧板垂直于所述第二前板和所述第二后板。

附图说明

图1是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的防溅射挡板的结构示意图;

图2是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的结构示意图;

图3是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的剖视图;

图4是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的局部剖视图;

图5是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的使用状态图;

图6是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的使用状态图;

图7是根据本发明实施例的用于清洗修整器的清洗装置的使用状态图。

具体实施方式

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