[发明专利]一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法

说明书

技术领域

本发明涉及激光光束整形领域，具体涉及一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化的方法。

背景技术

在激光照明、投影和加工等激光整形领域应用中，由于相干激光光束的强度为高斯分布，往往需要变换为平顶分布来实现其光束匀化的目的。目前常用的激光束整形光束匀化的方法有两种，一种是衍射型的，一种是折射型的。衍射型光束匀化元件由于受其设计思想限制，一般工作频段较窄，适用于光谱范围小的特定工作场合，不具有通用性。另外，衍射元件非连续表面轮廓所引起的杂散光较多，降低了能量利用率。而折射型光束匀化元件具有较长的工作频段，适用于更宽的光谱范围，且杂散光较少能够满足大部分的使用要求。

通常折射型光束匀化元件，分为单片式和双片式。结构上的主要区别是单片式由一个常规微透镜列阵和一个傅立叶透镜组成；双片式由两个相同的常规微透镜列阵和一个傅立叶透镜组成。而这两种折射型光束匀化元件的匀化光束的原理一致，区别是双片式的对具有一定发散角的入射光有一定的容差。其光束匀化的原理是微透镜列阵把光源光束分成多个小光束，再通过傅里叶透镜或者微透镜列阵和傅里叶透镜使所有的小光束都铺满整个目标光斑区域；多个小光束相互叠加，由于是轴对称系统，小光束的不均匀性相互抵消，最终在接收屏幕上形成均匀的目标光斑。

然而，应用于激光光束匀化时，由于激光具有较强的相干性，傅里叶透镜对分割后的周期性的细光束进行一次傅里叶变换作用，周期性结构的傅里叶变换仍具有周期性，目标面上将产生周期性分布的点列阵，将大大降低微透镜列阵匀化效果。

发明内容

本发明要解决技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法，消除匀化过程中的点阵效应以实现高均匀性光斑，满足实用化的要求。

本发明解决上述技术问题采用的技术方案是：

一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法，中心离轴型微透镜列阵将入射激光光束分成多个小光束，再经过周期性微透镜列阵以及傅里叶透镜作用，使所有的小光束相互叠加铺满整个目标光斑区域，从而相互抵消小光束间的不均匀性，以实现激光光束的匀化。

所述中心离轴型微透镜列阵中的各个子透镜单元的口径和焦距相同。

所述中心离轴型微透镜列阵中的各个子透镜单元的中心离轴分布，中心离轴量随机产生。

所述周期性微透镜列阵中的各个子透镜单元的周期性分布。

所述周期性微透镜列阵中的子透镜单元的口径、焦距以及阵列数与所述中心离轴型微透镜列阵中的子透镜单元相同。

所述周期性微透镜列阵中的子透镜单元的口径与所述中心离轴型微透镜列阵中的子透镜单元的口径一一对准。

所述周期性微透镜列阵放置于所述中心离轴型微透镜列阵之后，两个微透镜列阵之间的距离可以自由设计。

所述傅里叶透镜放置于所述周期性微透镜列阵之后的任意位置，该位置根据应用需求自由设计。

在所述傅里叶透镜的焦平面上获得匀化后的光斑。

本发明的有益效果在于：利用中心离轴型微透镜列阵结构，打破微透镜列阵的周期性的激光匀化方法，可以有效消除目标面处的相干条纹产生的点阵效应，实现高均匀性的光斑分布，是一种实用的光束整形方法，可以在激光加工和照明等方向有较大的应用前景。且中心离轴型微透镜列阵为折射型器件，具有较长的工作频段，适用于较宽的光谱范围，杂散光较少能够满足诸多应用需求。

附图说明

图1为本发明基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法的系统结构示意图；

图2为实施例中一种中心离轴型微透镜列阵中子透镜单元设计示意图；

图3为实施例中一种中心离轴型微透镜列阵的相位分布图；

图4为实施例中一种周期性微透镜列阵的相位分布图；

图5为实施例中一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法的匀化光斑图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施方式详细介绍本发明。但以下的实施例仅限于解释本发明，本发明的保护范围应包括权利要求的全部内容，而且通过以下实施例，本领域技术人员即可以实现本发明权利要求的全部内容。

具体实施例中一种基于中心离轴型微透镜列阵的激光光束匀化方法的系统结构如图1所示。中心离轴型微透镜列阵2将入射激光光束1分成多个小光束，再经过周期性微透镜列阵4以及傅里叶透镜6作用，使所有的小光束相互叠加铺满整个目标光斑区域9，从而相互抵消小光束间的不均匀性，以实现激光光束的匀化。