[发明专利]基于Welch法谱估计的超薄涂层厚度均匀性无损检测方法在审

专利信息
申请号: 201410529279.2 申请日: 2014-10-10
公开(公告)号: CN104457635A 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 徐春广;林祺;阎红娟;杨超;肖定国;周世圆 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01B17/02 分类号: G01B17/02;G01N29/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 welch 估计 超薄 涂层 厚度 均匀 无损 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种基于Welch法谱估计的超薄涂层厚度均匀性无损检测方法,包括超声检测装置、水浸聚焦探头、涂层试样、驱动装置、高频示波器以及计算机组成的超声显微镜系统,其特征是:所述方法采用的测量步骤如下:

(1)首先根据公式1计算得到探头与试样的距离dw,然后将聚焦探头置于试样上表面,并保证探头主声束轴线与试样表面处置,调节探头与试样上表面的距离至dw,公式1:

dwb=df-(CT/Cw)t

式中:dwb表示探头与表面的距离,CT为基底声速,Cw为水中声速,t为集体厚度,df为探头焦距。

(2)利用超声显微系统向涂层试样垂直发射纵波,并利用示波器采集涂层某一点的上表面反射回波和下表面n次回波混叠所形成的A扫信号。

(3)根据所采用聚焦探头的脉冲持续时间,去除(2)采集到的A扫波形的上表面回波,得到下表面n次回波信号。

(4)将所述(3)中的n次回波信号xN(n)代入公式2,得到涂层试样的Welch功率谱,公式2:

Pper(f)=1MULΣi=1L|Σn=0M-1xNi(n)d2(n)e-jwn|2]]>

式中:Pper(f)表示试样的Welch功率谱,L表示数据分成的段数,M表示每一段的数据长度,U表示归一化因子,d2(n)表示汉明窗。

(5)由公式3可知,Pper(f)图上会出现极大值,其对应的频率与涂层厚度相关。在(4)中求取的Pper(f)中读取两个相邻极大值对应的频率f1、f2,并计算得到Δf(Δf=f2-f1)。公式3:

(6)将(5)中计算得到的Δf和涂层声速c2代入公式3便可求得涂层某一点的厚度d。公式3:

d=c22Δf]]>

(7)利用超声显微扫查系统C扫描采集得到涂层试样的全波数据,然后根据(1)~(6)所述Welch法谱估计方法编写的数据后处理程序得到对应涂层的厚度分布C扫图,利用离散的颜色值表示不同的厚度范围,用于评估涂层厚度的均匀性。

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