[发明专利]一种使地瓜增产的栽培新方法

说明书

技术领域

本发明涉及农作物种植领域，具体说是一种使地瓜增产的栽培新方法。

背景技术

地瓜是高产稳产的一种农作物，它具有适应性广，抗逆性强，耐旱耐瘠，病虫害较少等特点，在水肥条件较好的地方种植，一般春薯亩产可达2000--3000公斤、但是由于自然条件和栽培水平的差异单产水平也极不平衡，为充分发挥地瓜的增产潜力，达到优质高产，但是如何才能使地瓜增产呢？特提出地瓜高产栽培技术新方法。

发明内容

本发明为解决地瓜增产栽培技术上的不足，发明一种地瓜增产增效的新栽培方法。

本发明为解决上述技术问题，所采取的技术方案是，一种提高地瓜亩产的栽培新方法，其特殊之处包括以下工艺：

（1）、筛选种薯。挑选地瓜块茎比较修长，但别太细、无虫害侵蚀的块茎做种。

（2）、种植种薯。2月中旬将挑选好的种薯整齐排列，进行育苗培植。

（3）、育苗。苗床第1个月每7天喷1次水，l个月后每星期喷2次水肥加新高脂膜，苗床第1个月每7天喷1次水，l个月后每星期喷2次水肥加新高脂膜。

（4）、适时早插，合理密植：根据苗床出门速度陆续剪苗插植，采用线平查方式。

（5）、施肥。施用完全腐熟的有机肥料，化肥追施用量要准确恰当。

技术效果

本发明的技术效果是，采用上述的栽培方案，可以实现一种地瓜增产的栽培新方法，该方法操作简单，效果好，没有额外的成本投入，尤其适合北方地区栽培地瓜使用，能有效地增加地瓜亩产约1000斤。

具体实施方式

（1）、筛选种薯。挑选地瓜块茎比较修长，但别太细、无虫害侵蚀的块茎做种。

（2）、种植种薯。催芽育苗是整个栽培方法的重要环节，育苗时间适当提早于2月中旬，把种薯移入保护地苗床育苗。苗床使用双层薄膜保护，种薯整齐排列，盖一层细土后平铺一层地膜，再拱架盖一层薄膜，以提高苗床地温。及时在平铺地膜上打孔引苗，以免晴天高温烧坏嫩苗。地膜覆盖可以起到增温保墒作用，同时可以改善土壤的理化性，能增加土壤的昼夜温差，

（3）、育苗。苗床第1个月每7天喷1次水，l个月后每星期喷2次水肥加新高脂膜，防止病菌侵染，保护幼苗茁壮成长。（株高达15厘米时）苗床第1个月每7天喷1次水，l个月后每星期喷2次水肥加新高脂膜，浓度适当加大，保证再生幼苗养分供给。

（4）、适时早插，合理密植：4月中旬是幼苗插植适期，此时常年早春气温回暖基本稳定，栽秧适期是晚霜结束后10厘米地温达15℃以上时即可开始栽秧，采用线平插方式，增加薯苗入土节数以提高结薯数。每亩插3500－4000株，整距60厘米，株距33cm左右。插植时间不宜超过4月20日。栽秧越早，生长期越长，结薯早，结薯多，块根膨大时间长，产量高，品质好；栽秧过晚，生长期缩短，地瓜少而小，产量低品质差，栽秧适期是晚霜结束后10厘米地温达15℃以上时，（4月中旬左右）地膜覆盖可适当提早、即可开始栽秧，为提高栽秧质理确保苗旺，栽秧时要剔除“老硬苗”和弱病苗，选用壮苗栽插，栽时最好将大小苗进行分级，分别栽插，使其均衡生长，为防治地瓜黑斑病，可用50%的甲基托布津1000倍液浸秧苗基部2－3寸、10分钟。地瓜应在保证成活的基础上争取浅栽，栽插深度一般以5－6厘米为宜，栽插时要求封土严密，深浅一致，使叶片露出地面，浇水时不沾泥浆，秧苗露头要直，秧不宜露的过长，以防大风甩苗影响成活。

（5）、施肥。选壤土择沙地块，早春结合耕翻施用完全腐熟的有机肥料，化肥追施用量要准确恰当，尿素15公斤，磷肥20公斤。