[发明专利]一种密叶泥炭藓人工种植方法在审
| 申请号: | 201410519610.2 | 申请日: | 2014-09-30 |
| 公开(公告)号: | CN104303760A | 公开(公告)日: | 2015-01-28 |
| 发明(设计)人: | 朱国金 | 申请(专利权)人: | 贵州高原农产资材开发有限公司 |
| 主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
| 代理公司: | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人: | 韩炜 |
| 地址: | 551300 贵州省黔南布依族苗族*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 泥炭 人工 种植 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种密叶泥炭藓人工种植方法,属于泥炭藓种植技术领域。
背景技术
泥炭藓,别名水苔,属于泥炭藓亚纲,泥炭藓目,中国专利200310104033公开了一种水苔种植方法。该方法是将泥炭藓枝条整株或切断后进行培养,是野生种苗变人工种植驯化的原生种苗,种植产量不高,按照传统种植方法,亩产在200公斤,品质也不如新西兰和智利的泥炭藓,达不到出口高价格要求。全世界泥炭藓品种300余种,我国有46种。如“中位泥炭藓”、“加萨泥炭藓”、“粗叶泥炭藓”、“拟尖叶泥炭藓”、“暖地泥炭藓及其亚种”、“密叶泥炭藓”、“泥炭藓及其亚种”等。各种泥炭藓的用途、外观、品相、生长特性等都有一定的差距,如果采用原有的泥炭藓种植方法,无法针对单一品种进行培养、改良,达到进一步人工种植提高泥炭藓产品质量和产量的目的。
发明内容
本发明的目的在于:提供一种密叶泥炭藓人工种植方法,能够适合密叶泥炭藓种植,改善密叶泥炭藓品种,提高其产量。
本发明的技术方案:包括下述步骤:
(1)选择阳光照射充足,给排水条件方便的地方建设大棚;海拔在800米—2000米;
(2)、大棚的农膜盖顶后用密度70%的遮阴网盖在大棚外;
(3)、将棚内地面拍紧拍平;
(4)、在地面上用木方隔成宽1-3m、长4-6m的种植床;
(5)、在种植床的底部用塑料农膜铺平,农膜要超出种植床的四周;
(6)、用泥炭藓加工生产中余下的下脚料泥炭藓粉均匀地撒在农膜上,厚度为0.5-2cm;
(7)、将野生采集的密叶泥炭藓鲜品切成1-3cm的细段均匀地撒在泥炭藓粉上,一个平方米用种量300-800g;
(8)、将种植好的密叶泥炭藓拍紧;
(9)、每天在种植好的种植床上用水喷湿,保持泥炭藓细粉润湿状态;
(10)、种植好30天后种植床上的密叶泥炭藓开始腐烂,2个月后开始长出绿色的新细胞,3个月后出芽,1年后生长达10cm,一年后成熟进入采收期。
上述的密叶泥炭藓人工种植方法,包括下述步骤:
(1)选择阳光照射充足,给排水条件方便的地方建设大棚,海拔在1000米—1500米,大棚高2.5m,宽6m,长30m;
(2)、大棚的农膜盖顶后用密度70%的遮阴网盖在大棚外;
(3)、将棚内地面拍紧拍平;
(4)、在地面上用木方隔成宽2m、长5m的种植床;
(5)、在种植床的底部用塑料农膜铺平,农膜要超出种植床的四周;
(6)、用泥炭藓加工生产中余下的下脚料泥炭藓粉均匀地撒在农膜上,厚度为1cm;
(7)、将野生采集的密叶泥炭藓鲜品切成2cm的细段均匀地撒在泥炭藓粉上,一个平方米用种量500g;
(8)、将种植好的密叶泥炭藓拍紧;
(9)、每天在种植好的种植床上用水喷湿,保持泥炭藓粉润湿状态;
(10)、种植好30天后种植床上的密叶泥炭藓开始腐烂,2个月后开始长出绿色的新细胞,3个月后出芽,1年后生长达10cm,一年后成熟进入采收期。
本发明的有益效果:本发明的申请人,一直致力于泥炭藓培育、种植的研究、生产工作,本专利公开的密叶泥炭藓人工种植方法,是经申请人长期实验、人工驯化野生泥炭藓后育苗培养的总结。密叶泥炭藓,植物体10cm左右,叶片密集丛生,呈灰绿色、黄绿色或稍紫红色,颈皮部分2到3层大形无色细胞,外皮细胞薄碧具单孔,中轴黄褐色,颈叶细小,呈三角状舌形,长0.5到0.55毫米,基部宽0.5毫米先端圆钝内卷,无色细胞菱形无螺纹,颈部上端密集丛生6枝左右,其中2枝强生。植株挺直粗短,叶片卵圆形,雌雄同株。孢子呈黄棕色。多生长于林下潮湿洼地或水沟边,生长区域以北半球及高寒山地为主。现有的野生密叶泥炭藓,由于长期采挖野生资源,导致了资源枯竭被破坏,密叶泥炭藓生长地的生态也严重被破坏,无法再生长。通过本发明的种植方法,能将野生泥炭藓资源驯化后育苗进行人种植推广,对泥炭藓产业的发展具有深远的意义。
本发明种植得到的密叶泥炭藓品种,生长速度快、植物体高大、品质粗壮,单产鲜品8000公斤,干品400公斤到500公斤,可以用于湿地公园建设中湿地造景产品。
具体实施方式
本发明的实施例1:密叶泥炭藓人工种植方法,包括下述步骤:
(1)选择阳光照射充足,给排水条件方便的地方建设大棚;海拔在800米—2000米。
(2)、大棚的农膜盖顶后用密度70%的遮阴网盖在大棚外;
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