[发明专利]一种生产新世纪杏树成树基肥的机械装置在审
| 申请号: | 201410518414.3 | 申请日: | 2014-10-03 |
| 公开(公告)号: | CN105523826A | 公开(公告)日: | 2016-04-27 |
| 发明(设计)人: | 朱云利 | 申请(专利权)人: | 朱云利 |
| 主分类号: | C05G3/00 | 分类号: | C05G3/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 221400 江苏省徐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 生产 新世纪 杏树 基肥 机械 装置 | ||
技术领域:
本发明属于有机肥料生产机械领域,尤其涉及一种生产新世纪杏树成树基肥的机械装置。
背景技术:
杏树是中国一种优良的果树,属于蔷薇落叶乔木,杏树树高一般5至7米,树冠多呈向阳开心型,枝条较密,叶片成卵形、阔卵形,叶片边缘有细钝的锯齿,叶背上稍有毛或无毛,杏树果实为圆形称杏子,果皮为红黄色,肉约1厘米厚,杏核有离核、半离核、粘核三种,核面光滑,边缘有一条沟,杏核薄而硬,里面有杏仁,杏仁有甜、苦之分,果实一般重20克到70克,大者可达100克以上;杏树适应性强,成年的杏树皮比较厚,因而可耐零下二三十度的严寒,杏树根系发达,入土很深,大约和树高相当,这也正是其耐寒的原因。新世纪杏树是我国育成的新品种,其果实卵圆型,果面光滑,果皮底色橙黄色,彩色为粉红色,肉质细、味甜酸、风味浓、品质佳,果肉含可溶性固形物15.2%,离核,仁苦,每年5月下旬成熟,果实发育期58天,特点是离核、抗裂果、耐旱、耐瘠薄;新世纪杏树成树每年需施基肥一次,追肥二次,因追肥的数量和质量均无法和基肥相比,因此,基肥是十分重要的,新世纪杏树果实含有的成分多数要来自于基肥,因此,专用基肥需含有足量的各种成分以供新世纪杏树成树的吸收。本发明以第一粉碎机、发酵池、第二粉碎机、掺混机为设备,以干燥的猪粪、干燥的无污染河泥、玉米秸秆、霉变饲料、茶籽饼、有机肥发酵剂、磷酸一铵、硫酸钾、腐植酸螯合微量元素为原料,通过破碎、发酵、粉碎、掺混的方法来制取新世纪杏树成树专用基肥,该产品含有丰富的氮、磷、钾、有机质、腐殖酸螯合态中微量营养元素,施用后能满足新世纪杏树成树的生长需要,对增强杏树的抗病能力,增加果实的产量,改善果实品质,起到重要的作用。
发明内容:
本发明主要解决的问题是提供一种生产新世纪杏树成树基肥的机械装置,该装置以第一破碎机、发酵池、第二粉碎机、掺混机为设备来生产新世纪杏树成树专用基肥,该肥料含有丰富的无机质、有机质、腐殖酸螯合态中微量营养元素,施用后能满足新世纪杏树成树的生长需要。
本发明采用的技术方案是:
一种生产新世纪杏树成树基肥的机械装置,包括:第一粉碎机1、发酵池2、第二粉碎机3、掺混机4;其特征是:第一粉碎机1上设有干燥的猪粪、干燥的无污染河泥、玉米秸秆、霉变饲料、茶籽饼进口5,第一粉碎机1和发酵池2间设有第一输送机6,发酵池2上设有有机肥发酵剂和水进口7,发酵池2和掺混机4间设有第二输送机8,第二粉碎机3上设有磷酸一铵、硫酸钾、腐植酸螯合微量元素进口9,第二粉碎机3和掺混机4间设有第三输送机10,掺混机4上设有成品出口11。
本发明的进一步技术方案是:
所述的第一、第二、第三输送机为刮板输送机。
所述的第一粉碎机为56120型粉碎机。
所述的第二粉碎机为WF304万能粉碎机。
所述的发酵池为圆柱形水泥池,深度为1米。
本发明的有益效果是:提供了一种生产新世纪杏树成树基肥的机械装置,该装置具有使用通用设备组合、结构合理简单、操作方便、生产过程条件温和、无污染废弃物排放等一系列优点,产品是一种新世纪杏树成树的专用基肥。
附图说明:
如图1为本发明的结构和工艺流程框图。
具体实施方式
实施例:
1.将配方量的干燥的猪粪、干燥的无污染河泥、玉米秸秆、霉变饲料、茶籽饼通过设置于第一粉碎机1上的干燥的猪粪、干燥的无污染河泥、玉米秸秆、霉变饲料、茶籽饼进口5送入第一粉碎机1粉碎,粉碎后通过设置于第一粉碎机1和发酵池2间的第一输送机6送入发酵池2,通过设置于发酵池2上的有机肥发酵剂和水进口7添加配方量的有机肥发酵剂和水,掺混均匀后密封发酵夏季20-22天,冬季32-34天后开池晾晒,晾晒至含水量小于10%后得到有机复合肥,将其通过设置于发酵池2和掺混机4间的第二输送机8送入掺混机4。
2.将配方量的磷酸一铵、硫酸钾、腐植酸螯合微量元素通过设置于第二粉碎机3上的磷酸一铵、硫酸钾、腐植酸螯合微量元素进口9送入第二粉碎机3粉碎为粉末状,然后通过设置于第二粉碎机3和掺混机4间的第三输送机10将其送入掺混机4,和发酵后的有机复合肥掺混均匀即得新世纪杏树成树专用基肥。
当然,本发明还有其它的实施方式,在不离开本发明的精神背景下所做的任何技术、原理和工艺的改进,均落在本发明的保护范围之内。
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