[发明专利]一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺

权利要求书

1.一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：a、通过磁控溅射镀膜方式在模仁本体上镀上一层50～100纳米的钛-硅薄膜层，该磁控溅射镀膜方式包括以下子步骤：a1、采用沈阳科学仪器股份有限公司制造的FJL560 型高真空多功能磁控溅射镀膜机, 使用直径为60 mm, 厚度为3 mm, 纯度为5 N 的钛靶, 基片为40 mm×20 mm×2 mm 的SiO2 薄片，a2、基片镀膜前先用丙酮清洗, 然后用超声波清洗, 最后用去离子水冲洗风干，a3、在沉积薄膜之前, 钛靶用Ar 离子轰击预溅射5 分钟, 待溅射稳定后再移开基片挡板开始薄膜的沉积；b、通过非平衡磁控溅射方法在钛-硅薄膜层上覆盖一层钛-硅-氮薄膜层；c、通过非平衡磁控溅射方法在钛-硅-氮薄膜层上覆盖一层钛-铝-硅-氮薄膜层。

2.如权利要求1所述一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，其特征在于：所述钛-硅-氮薄膜层的厚度为100～300纳米。

3.如权利要求2所述一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，其特征在于：所述钛-铝-硅-氮薄膜层的厚度为300～500纳米。

4.如权利要求3所述一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，其特征在于，所述非平衡磁控溅射方法选择的工艺参数范围为：选取80瓦～150瓦低功率；选取5×10 -3 托～8×10 -3 托的工作压力。

5.如权利要求4所述一种玻璃模具的专用模仁的制备工艺，其特征在于，所述磁控溅射镀膜方式选择的工艺参数范围为: Ar 气流量20 sccm；直流电源功率80 W；溅射气压1Pa； 靶基距70 mm。