[发明专利]一种降低微弧渗硼表面粗糙度的方法

权利要求书

1.一种降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于该方法包含的步骤如下：

(a)将钢试样前期处理；

(b)将处理后的钢试样化学镀镍或化学镀铜；

(c)然后再放入微弧渗硼溶液中进行微弧渗硼处理，即可得到相应粗糙度的渗硼层。

2.根据权利要求1所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：在所述的步骤(a)中，前期处理为依次进行除油、酸洗和活化处理。

3.根据权利要求1所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：在所述的步骤(b)中，化学镀镍的处理溶液的组分具有硫酸镍、次亚磷酸钠、柠檬酸钠、乙酸钠、乙酸铅和去离子水；其中，在1L的去离子水中具有25g～35g的硫酸镍、20g～30g的次亚磷酸钠、15g～25g的柠檬酸钠、5g～15g的乙酸钠和0.5mg～1.5mg的乙酸铅。

4.根据权利要求3所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：其中，在1L的去离子水中具有30g的硫酸镍、25g的次亚磷酸钠、20g的柠檬酸钠、10g的乙酸钠和1mg的乙酸铅。

5.根据权利要求1所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：在所述的步骤(b)中，化学镀铜的处理溶液的组分具有硫酸铜、甲醛、乙二胺四乙酸二钠、2,2’-联吡啶、氢氧化钠和去离子水；其中，在1L的去离子水中具有5g～15g的硫酸铜、8ml～18ml的甲醛、20g～30g的乙二胺四乙酸二钠、5mg～15mg的2,2’-联吡啶和8g～18g的氢氧化钠。

6.根据权利要求5所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：其中，在1L的去离子水中具有10g的硫酸铜、13ml的甲醛、25g的乙二胺四乙酸二钠、10mg的2,2’-联吡啶和13g的氢氧化钠。

7.根据权利要求1所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：在所述的步骤(c)中，所述的微弧渗硼溶液的组分具有氟硼酸钠、氢氧化钾、氯化钾和去离子水；其中，在1L的去离子水具有30～40g的氟硼酸钠、15g～25g的氢氧化钾和5g～15g的氯化钾。

8.根据权利要求7所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：其中，在1L的去离子水具有35g的氟硼酸钠、20g的氢氧化钾和10g的氯化钾。

9.根据权利要求1所述的降低微弧渗硼表面粗糙度的方法，其特征在于：在所述的步骤(c)中，微弧渗硼处理过程为以钢为阴极，石墨为阳极，加电压至220V-300V，处理5～15分钟，即可得到渗硼层。