[发明专利]曝光装置、曝光方法以及装置制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置通过具有第一投影倍率的第一投影光学系统将在原件上形成的图案曝光到基板上作为第一图案形成区域，该曝光装置包括：

原件保持单元，被配置为保持所述原件；

基板保持单元，被配置为保持所述基板；及

控制器，被配置为控制原件保持单元和基板保持单元的扫描，从而将多个第一图案形成区域曝光到通过具有不同于第一投影倍率的第二投影倍率的第二投影光学系统预先形成在所述基板上的多个第二图案形成区域上，其中所述多个第一图案形成区域叠加在所述多个第二图案形成区域上，

其中所述控制器被配置为：当在原件保持单元和基板保持单元的单次扫描中将所述多个第一图案形成区域扫描曝光到所述多个第二图案形成区域上的时候，基于形成在所述基板上的所述多个第二图案形成区域的形状或者形成在原件上的图案的形状，针对所述多个第二图案形成区域中的每个第二图案形成区域改变原件保持单元的操作，

其中，改变原件保持单元的操作包括改变以下中的至少一个：扫描速度，扫描方向，扫描位置，以及相对于与第一投影光学系统的光轴方向垂直的平面内的扫描方向的角度，其中所述第一投影光学系统被配置为将所述多个第一图案形成区域曝光到所述多个第二图案形成区域上。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，其中所述多个第二图案形成区域的形状包括所述多个第二图案形成区域的布置。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，其中，所述控制器被配置为：基于所述多个第一图案形成区域和所述多个第二图案形成区域之间的倍率误差或旋转误差，改变原件保持单元的操作。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，其中，所述控制器被配置为：在图案制造误差发生超出允许范围的情况下，基于形成在原件上的图案的形状改变原件保持单元的操作。

5.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

测量装置，被配置为测量所述基板上的所述多个第二图案形成区域的形状或布置。

6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

位置测量装置，被配置为测量标志的位置，所述标志被设置在原件上以与多个图案在所述原件上形成的位置对准，

其中所述控制器被配置为基于由位置测量装置测出的标志的位置确定图案的形状或布置。

7.一种曝光方法，其特征在于，该曝光方法用于以第一投影倍率将形成在原件上的图案曝光到基板上作为第一图案形成区域，该曝光方法包括：

在扫描被配置为保持原件的原件保持单元和被配置为保持基板的基板保持单元的时候，将多个第一图案形成区域曝光到以不同于第一投影倍率的第二投影倍率预先形成在所述基板上的多个第二图案形成区域上，其中所述多个第一图案形成区域叠加在所述多个第二图案形成区域上，

其中，当在原件保持单元和基板保持单元的单次扫描中将所述多个第一图案形成区域扫描曝光到所述多个第二图案形成区域上的时候，基于形成在所述基板上的所述多个第二图案形成区域的形状或者形成在原件上的图案的形状，在曝光中改变原件保持单元的操作，

其中，改变原件保持单元的操作包括改变以下中的至少一个：扫描速度，扫描方向，扫描位置，以及相对于与被配置为将所述多个第一图案形成区域曝光到所述多个第二图案形成区域上的投影光学系统的光轴方向垂直的平面内的扫描方向的角度。