[发明专利]一种倒置生长REBCO块材的方法有效

专利信息
申请号: 201410502707.2 申请日: 2014-09-26
公开(公告)号: CN104233469B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 李昊辰;樊文硕;王伟;郭林山;相辉;崔祥祥;张乐天;姚忻 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B19/12;C04B35/45;C04B35/622
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 余明伟
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 倒置 生长 rebco 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种高温超导材料的生长方法,特别是涉及一种倒置生长REBCO块材的方法。

背景技术

自REBa2Cu3Ox(简称REBCO、RE123、稀土钡铜氧,RE=Y、Gd、Sm、Nd等)超导体被发现以来,就引起了人们的广泛关注。由于REBa2Cu3Ox具有完全抗磁性、高临界电流密度和高冻结磁场等特性,REBCO超导体在诸如磁悬浮力、磁性轴承、飞轮储能和永磁体等方面有许多潜在的应用。

对于进一步的科研工作,探索对于REBCO块材的生长方法具有很重要的意义。而传统制备REBCO块材的方法是利用顶部籽晶熔融织构法,这种方法有个无法避免的缺点是液体流失,这易于导致组分偏离与自发形核。组分偏离问题将导致制备的REBCO块材中RE123与RE211分布不均匀,影响大尺寸块材的生长。自发形核的存在使得块材超导性能有所降低。

其次在生长REBCO块材时,为了防止因液体流失造成的炉内污染问题,需要对REBCO前驱体下面提供锆珠进行支撑,但这将引入多余应力,对样品的生长有一定的影响。如果不加锆珠,直接将前驱体与垫片接触的话,对块材也有一定的污染。

因此,本领域的技术人员致力于开发一种新型的生长REBCO高温超导块材的方法。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种倒置生长REBCO块材的方法,用于解决现有技术中液体流失导致组分偏离与自发形核的问题。

为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种倒置生长REBCO块材的方法,其特征在于,包括:步骤一,制备RE123相和RE211相的粉末;步骤二,制备嵌入式籽晶前驱体:将所述RE123相和RE211相的粉末按RE123+30mol%RE211+(0.3~1.5)wt%CeO2的比例混合均匀,再压制形成圆柱形的前驱体,并在压制过程中,将籽晶水平固定地嵌入所述前驱体上表面中央区域的内部,所述籽晶的诱导生长面位于所述前驱体的内部,且所述诱导生长面的背面与所述前驱体的上表面共面,形成所述嵌入式籽晶前驱体;步骤三,将所述嵌入式籽晶前驱体倒置放于未抛光的MgO基板表面,并置于生长炉中进行熔融织构法生长REBCO块材,其中,所述嵌入式籽晶前驱体的嵌入所述籽晶的一面所述MgO基板表面相接触的。其中,RE123+30mol%RE211+(0.3~1.5)wt%CeO2的比例是指:RE123和RE211的摩尔比为1:30%,RE123与RE211质量之和与CeO2的质量比为1:(0.3~1.5)。

可选地,所述步骤一包括:按照RE:Ba:Cu=1:2:3的比例将RE2O3、BaCO3和CuO粉末混合,得到RE123相的前驱粉末;按照RE:Ba:Cu=2:1:1的比例将RE2O3、BaCO3和CuO粉末混合,得到RE211相的前驱粉末;将所述RE123相的前驱粉末和所述RE211相的前驱粉末分别研磨后,在空气中900℃烧结48小时并重复3次此研磨、烧结过程从而获得所述RE123相和RE211相的粉末。

可选地,所述前驱体的直径为15~30mm,所述前驱体的高度为5~20mm。

可选地,所述籽晶是NdBCO/YBCO/MgO薄膜籽晶,并且,NdBCO/YBCO/MgO薄膜籽晶是指在MgO单晶片上先沉积一层厚度为100~300nm的c轴取向的YBCO薄膜,然后在YBCO薄膜上再沉积一层厚度为300~600nm的c轴取向的NdBCO薄膜,ab面的尺寸为2mm×2mm~10mm×10mm。

可选地,所述籽晶的所述诱导生长面是指具有NdBCO/YBCO/MgO薄膜的一面。

可选地,所述籽晶为c轴取向,所述籽晶的尺寸为2mm×2mm。

可选地,所述步骤三的熔融织构法生长REBCO块材包括:步骤31,使所述生长炉内的温度在第一时间内升至第一温度;并保温2~5小时;步骤32,使所述生长炉内的温度在第二时间内升至第二温度;并保温1~2小时;步骤33,使所述生长炉内的温度在第三时间内降至第三温度;步骤34,使所述生长炉内的温度在第四时间内降至第四温度;步骤35,淬火,获得所述REBCO板材。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410502707.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top