[发明专利]一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410497381.9 申请日: 2014-09-25
公开(公告)号: CN104292622A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 刘冉;高翔;彭志宏;傅轶;谭颂斌 申请(专利权)人: 广东银禧科技股份有限公司;银禧工程塑料(东莞)有限公司;苏州银禧科技有限公司
主分类号: C08L23/12 分类号: C08L23/12;C08L23/14;C08L23/06;C08L23/08;C08K13/02;C08K3/34;C08F110/02;C08F4/80
代理公司: 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 代理人: 李玉平
地址: 523927 *** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 低流痕 熔接 聚丙烯 组合 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,按以下重量百分比的原料配制成:

聚丙烯                        55~70%;

超支化聚乙烯                 10~20 %;

乙烯与α-烯烃的共聚物     5~20 %;

无机填料                       10~20 %;

抗氧剂                        0.2~0.4 %;

光稳定剂                     0.2~0.4%;

其它添加剂                    0.5~1 %,

上述物质的总量为100%。

2.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述聚丙烯包含以下三种组份:聚丙烯A,占聚丙烯重量分数为2.5~6 %;聚丙烯B,占聚丙烯重量分数为4~14 %;聚丙烯C,所述聚丙烯C占聚丙烯重量分数的80~90 %;所述聚丙烯为均聚聚丙烯或者共聚聚丙烯的任一种或者均聚聚丙烯和共聚聚丙烯的组合物。

3.根据权利要求2所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述聚丙烯A在230℃×2.16kg的测试条件下,熔体流动速率大于300 g/10min,所述聚丙烯B在230℃×2.16 kg的测试条件下,熔体流动速率为1~15g/10min,所述聚丙烯C在230℃×2.16kg的测试条件下,熔体流动速率为15~60 g/10min。

4.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述聚丙烯A和聚丙烯B的熔体流动速率的比值至少为40。

5.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述超支化聚乙烯的支化度为(90~130)/1000C,重均分子量Mw为400~1000 kg/mol。

6.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述乙烯与α-烯烃的共聚物是乙烯与1-丁烯的共聚物、乙烯与1-辛烯的共聚物或者乙烯与丙烯和1-丁烯的三元共聚物中的任意一种。

7.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述无机填料物为滑石粉、碳酸钙、硫酸钡、蒙脱土、硅灰石、埃洛石、分子筛和玻璃珠中的任意一种或几种的组合;所述其它添加剂包括颜色色粉、色母粒、成核剂、气味吸附剂。

8.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述的抗氧剂包括主抗氧剂和辅抗氧剂,所述主抗氧剂为受阻酚和硫酯类抗氧剂中的一种或几种的组合;所述辅抗氧剂为亚磷酸盐和酯类抗氧剂中的一种或几种的组合。

9.根据权利要求1所述的一种低流痕、低熔接痕的聚丙烯组合物,其特征在于:所述光稳定剂为受阻胺类、二苯甲酮类、苯并三唑类中的一种或几种的组合。

10.权利要求1-9任一项所述的一种低流痕、低熔接痕聚的丙烯组合物的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:

步骤1:按照重量配比称取各原料;

步骤2:依次将称量好的聚丙烯、超支化聚乙烯、乙烯与α-烯烃的共聚物、无机填料、抗氧剂、光稳定剂及其它添加剂加入高速搅拌机中混合3~5分钟;步骤3:将混合好的原料置于双螺杆机中,经熔融挤出造粒,其工艺为:一区190~200℃,二区200~210℃,三区210~220℃,四区205~215℃;整个挤出过程的停留时间为l~2 分钟,压力为13~19 MPa。

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