[发明专利]一种聚合物荷电多孔膜的制备方法

权利要求书

1.本发明提供一种聚合物荷电多孔膜的制备方法，其特征在于原位制备一种提供荷电性的聚合物溶液，并与至少一种聚合物基质材料混合制得聚合物荷电多孔膜。

2.如权利要求1所述的原位制备的一种荷电聚合物溶液，其特征在于选择一种聚合物材料，对其进行化学反应改性，原位制得一种聚合物溶液使这种聚合物链上带有荷电基团，该溶液直接与基质材料混合用于制备荷电多孔膜。该方法具有操作过程简单，成本低廉，容易工业化实施等特点。原位制得的聚合物溶液不仅使聚合物多孔膜带有电荷性，还可以起到使膜亲水性提高，制得膜水通量大，分离效率高，抗污染能力强等特点。

3.如权利2要求所述的荷电聚合物溶液原位制备方法，其特征在于荷电聚合物溶液制备所使用的材料其特征为聚醚砜、聚砜、聚醚酮、聚醚砜酮中的至少一种；所使用的溶剂为二氯甲烷、二氯乙烷、浓硫酸中的至少一种；化学反应所需要的试剂为发烟硫酸、氯磺酸、浓硫酸、气体三氧化硫中的至少一种。

4.如权利要求1所述一种聚合物荷电多孔膜的制备方法，其特征为将原位制备的一种荷电聚合物溶液、基质材料与至少一种孔径调节剂在一定的比例下混合配制铸膜液，直接通过相分离的方法制备聚合物荷电多孔膜。

5.如权利4要求所述的制备方法，其特征在于制膜所使用的基质材料为聚醚砜、聚砜、聚醚酮、聚醚砜酮的至少一种。

6.如权利4要求所述的制备方法，其特征在于配制铸膜液所用的溶剂为N-甲基吡咯烷酮、二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺中的至少一种。

7.如权利4要求所述的制备方法，其特征在于制膜所用的孔径调节剂为聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、丙酮、丁酮、丙二醇、正丁醇中的至少一种，其中聚乙二醇的相对分子量为200、400、800、2000、6000、20000，聚乙烯吡咯烷酮K值为15、30、60、90及130。

8.如权利4所述的膜的制备方法，其制备步骤如下：

A、荷电聚合物溶液的原位制备

B、铸膜液的配制

C、相分离制膜

D、后处理。

9.如权利要求8所述膜的制备步骤，其特征在于：

A、荷电聚合物溶液的原位制备：按照权利要求3中所述的一种聚合物材料，使用其中的一种溶剂在一定温度下溶解，然后加入至少一种化学反应所需要的试剂，在一定的条件下反应，制备荷电聚合物溶液。其中化学改性反应温度为30℃～90℃，反应时间为4小时～30小时。

B、铸膜液的配制：将至少一种基质材料、荷电聚合物溶液与孔径调节剂在一定的比例下混合，添加溶剂调节铸膜液粘度，制得均匀混合的铸膜液。

C、制膜方法采用熟知的相分离制膜法，将制得的铸膜液在光滑干净的玻璃板上刮制成膜，在空气中预放置5秒～5分钟，再将等其放入1℃～50℃的凝固浴中。制膜环境条件为：环境温度15℃～50℃，湿度为30％～80％。

D、后处理：将制得的膜放入去离子水中48h，完全除去溶剂以后，保存，待用。