[发明专利]LED衬底结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201410493639.8 申请日: 2014-09-24
公开(公告)号: CN104201270B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 丁海生;马新刚;李东昇;李芳芳;江忠永 申请(专利权)人: 杭州士兰明芯科技有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 郑玮
地址: 310018 浙江省杭州市杭*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: led 衬底 结构 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种LED衬底结构的制作方法,其特征在于,包括:

提供衬底;

在所述衬底上形成第一光刻胶;

对所述第一光刻胶执行光刻工艺,在所述衬底上形成呈周期性排布的多个光刻胶图形;

在每相邻两个光刻胶图形之间形成由透射材料形成的增透减反结构,以增加光的透射减少光的反射,所述增透减反结构的纵截面的上边长度大于下边长度;

去除所述多个光刻胶图形;

其中,在每相邻两个光刻胶图形之间形成由透射材料形成的增透减反结构包括:

形成由透射材料形成的透射材料层,所述透射材料层覆盖多个光刻胶图形及每相邻两个光刻胶图形之间的衬底;

在所述透射材料层表面形成一层第二光刻胶;

刻蚀所述第二光刻胶,直至部分透射材料层露出;

同比刻蚀所述第二光刻胶及透射材料层,直至第二光刻胶完全消除;

刻蚀部分透射材料层,直至所述多个光刻胶图形的表面露出。

2.如权利要求1所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述第一光刻胶为环氧基光刻胶或丙烯酸基光刻胶。

3.如权利要求1所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述增透减反结构的材料为氮化硅和氮氧化硅中的一种或多种。

4.如权利要求1所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,采用有机溶剂腐蚀去除所述多个光刻胶图形。

5.如权利要求4所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述有机溶剂为丙酮、酒精或者剥离液中的一种或多种组合。

6.如权利要求1~5中任一项所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述增透减反结构的纵截面为倒梯形。

7.如权利要求1~5中任一项所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

8.一种LED衬底结构的制作方法,其特征在于,包括:

提供衬底;

在所述衬底上形成第一光刻胶;

对所述第一光刻胶执行光刻工艺,在所述衬底上形成呈周期性排布的多个光刻胶图形;

在每相邻两个光刻胶图形之间形成由透射材料形成的增透减反结构,以增加光的透射减少光的反射,所述增透减反结构的纵截面的上边长度大于下边长度;

去除所述多个光刻胶图形;

其中,在每相邻两个光刻胶图形之间形成由透射材料形成的增透减反结构包括:

形成由透射材料形成的透射材料层,所述透射材料层覆盖多个光刻胶图形及每相邻两个光刻胶图形之间的衬底;

对所述透射材料层采用抛光工艺,直至所述多个光刻胶图形的表面露出。

9.如权利要求8所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述第一光刻胶为环氧基光刻胶或丙烯酸基光刻胶。

10.如权利要求8所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述增透减反结构的材料为氮化硅和氮氧化硅中的一种或多种。

11.如权利要求8所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,采用有机溶剂腐蚀去除所述多个光刻胶图形。

12.如权利要求11所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述有机溶剂为丙酮、酒精或者剥离液中的一种或多种组合。

13.如权利要求8~12中任一项所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述增透减反结构的纵截面为倒梯形。

14.如权利要求8~12中任一项所述的LED衬底结构的制作方法,其特征在于,所述衬底为蓝宝石衬底。

15.一种如权利要求1所述的LED衬底结构的制作方法制作的LED衬底结构,其特征在于,包括:衬底,所述衬底上形成有由透射材料形成的增透减反结构,以增加光的透射减少光的反射,所述增透减反结构的纵截面的上边长度大于下边长度,且所述增透减反结构的纵截面的横向宽度至少包括两个不同的横向宽度值。

16.如权利要求15所述的LED衬底结构,其特征在于,所述增透减反结构的纵截面为倒梯形。

17.如权利要求15所述的LED衬底结构,其特征在于,所述增透减反结构的材料为氮化硅和氮氧化硅中的一种或多种。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州士兰明芯科技有限公司,未经杭州士兰明芯科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410493639.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top