[发明专利]光掩模储放装置

说明书

本发明是有关于一种光掩模储放装置，包括有底座和上盖。此光掩模储放装置包括有聚醚醚酮材料。一锁扣组件用以耦接底座和上盖。光掩模固定组件设置于上盖上，而光掩模支撑组件则设置于底座上，用以避免光掩模震动。此光掩模储放装置设计有通气孔结构使气体以360度的方式被喷入由底座与上盖所构成的光掩模置放空间。在通气孔结构中另有额外设计的粒子过滤器来防止微粒进入光掩模盒内，一密封衬垫设计于底座底板以提升底座与上盖密合时的气密性。本发明所提出的光掩模储放装置，藉以在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象。

本申请为分案申请，其母案申请的申请号为200810130539.3，申请日为2008年7月7日，发明名称为“光掩模储放装置”。

技术领域

本发明涉及一种储放及/或运送装置，特别是涉及一种有关于光掩模的储放及/或运送装置。

背景技术

光掩模用以在微影制程(Photolithography Process)中将特定的电路设计图案透过制程步骤使其成像于一基板(例如半导体晶圆)上，以形成一集成电路的特征。一般光掩模包括有一透明基材，其具有一客户所设计或要求的特定电路图案于透明基材上，因而光线可通过透明基材的特定电路图案，以提供特定电路图案成像于基板(例如半导体晶圆)上。通常光掩模在制程过程中常需进行储放、运送或其它处理，不适当的储放和运送可能导致光掩模损坏，例如：错误地处理、粉尘、污染物、边缘擦伤或其它缺陷原因。再者，一般光掩模的容器例如因零件过多而难以制造、清洁及使用。零件过多的光掩模容器更可能导致零件因长久使用而松脱进而间接造成生产机台故障的情形，而可能因此影响制程的周期时间。

又，随着集成电路制程的光掩模线宽的缩小及分辨率增强技术(ResolutionEnhancement Techniques；RETs)的复杂度的增加，光掩模的缺陷或污染物可能造成制程上的严重影响，例如：良率下降、制程周期时间的影响或制程可靠度降低。

有鉴于上述现有的光掩模储放装置存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型的光掩模储放装置，能够改进一般现有的光掩模储放装置，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。

发明内容

本发明的主要目的在于，克服现有的光掩模储放装置存在的缺陷，而提供一种新型的光掩模储放装置，所要解决的技术问题是使其藉以在运送、储放过程中能更有效的保护例如光掩模、基材或晶圆等对象，非常适于实用。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种光掩模储放装置，其至少包括：一上盖组件和一底座组件，具有聚醚醚酮材料；至少一光掩模固定组件，耦接于该上盖组件；至少一通气孔结构，形成于该底座组件中，其中至少一通气孔结构用以允许一气体来通过，并以360度的方向来进入该光掩模储放装置的内部空间；以及

一密封衬垫，设置于该底座组件上。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的光掩模储放装置，其中该上盖组件和该底座组件利用一导电材料来形成内垫。

前述的光掩模储放装置，其中该密封衬垫具有一CS-105材料或成份。

前述的光掩模储放装置，其中该通气孔结构包括有一粒子过滤器。

前述的光掩模储放装置，其还至少包括：一固定组件，包括一螺丝和一垫圈，其中该螺丝具有一特定的螺纹长度，其至少大于5mm，且其中该固定组件用以耦接于该上盖组件。

前述的光掩模储放装置，其还至少包括：一光掩模支撑部，设置于该底座组件上，其中该光掩模支撑部包括有聚醚醚酮材料。