[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示面板在审
| 申请号: | 201410490188.2 | 申请日: | 2014-09-23 |
| 公开(公告)号: | CN104298018A | 公开(公告)日: | 2015-01-21 |
| 发明(设计)人: | 向西;姜妮;冯远明 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1368;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 阵列 及其 制作方法 显示 面板 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、以及包括该阵列基板的显示面板。
背景技术
为了满足广大消费者对显示品质的追求,液晶显示面板的分辨率越来越高,从而导致产品的开口率越来越低,且功耗日益增加。
图1是现有阵列基板的结构示意图,在衬底基板1(这里的“衬底基板”包括薄膜晶体管阵列)上依次设置有平坦层2、第一电极层3、绝缘层4和第二电极层5。其中,第二电极层5包括多个电极条50。
现有高PPI(Pixels Per Inch,每英寸像素数)产品中使用的液晶7一般是正性液晶,正性液晶加电时趋于与电场线6平行排列,如图1中所示。目前,高PPI产品都希望液晶分子平行于衬底基板1排列,以提高光透过率。然而,在电场线6垂直的位置,比如电极条50中部以及相邻电极条50之间空隙的中部(图1中虚线框所示的位置),液晶分子垂直于衬底排列,该区域透光性能受到影响产生暗线。为了满足客户亮度的需要通常的做法是增加背光的亮度,因此导致了功耗的增加。
为了降低功耗并维持满意的亮度,一种方法是降低显示面板的驱动电压。模拟显示通过降低绝缘层4的厚度,以增大第一电极层3和第二电极层5之间的电场强度,可以降低驱动电压。但是绝缘层4的厚度每降低驱动电压仅可以降低0.5V,对于高PPI产品,绝缘层4的厚度本身已经非常小,通过降低绝缘层的厚度来实现降低驱动电压的范围非常有限。
因此,如何实现低功耗高透过率显示成为本领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板,以实现低功耗高透过率显示。
为解决上述技术问题,作为本发明的第一个方面,提供一种阵列基板,包括依次位于衬底基板上方的平坦层、第一电极层、绝缘层和第二电极层,所述第二电极层包括多个电极条,所述平坦层包括多个朝向所述第二电极层凸出的凸起,所述第一电极层的至少一部分形成在所述凸起上。
优选地,相邻的所述电极条之间具有空隙,所述凸起的位置对应于所述空隙的位置。
优选地,所述凸起的高度小于或等于所述绝缘层与所述电极条的厚度之和。
优选地,所述凸起的宽度小于所述空隙的宽度。
优选地,所述凸起在垂直于所述衬底基板的方向上的截面为梯形、矩形、三角形和圆弧形中的一种。
作为本发明的第二个方面,还提供一种显示面板,包括本发明所提供的上述阵列基板。
优选地,所述显示面板还包括与所述阵列基板对盒设置的对盒基板,以及填充在所述阵列基板和所述对盒基板之间的液晶,所述液晶为正性液晶或者负性液晶。
作为本发明的第三个方面,还提供一种阵列基板的制作方法,包括以下步骤:
形成包括多个凸起的平坦层;
在所述平坦层上形成第一电极层;
在所述第一电极层上形成绝缘层;
在所述绝缘层上形成包括多个电极条的第二电极层;
其中,所述凸起朝向所述第二电极层凸出,所述第一电极层的至少一部分形成在所述凸起上。
优选地,相邻的所述电极条之间具有空隙,所述凸起的位置对应于所述空隙的位置。
优选地,使用半阶色调掩膜板形成包括多个凸起的平坦层。
本发明通过在平坦层上设计凸起,以减小第一电极层与第二电极层中电极之间的垂直距离,达到增强水平电场强度,减弱垂直电场强度分布的效果,使显示面板能够在较低的驱动电压下达到较高的亮度。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。
图1是现有技术中阵列基板的结构示意图;
图2是本发明实施例中提供的显示面板的结构示意图;
图3是驱动电压与光透光率的模拟曲线图;
图4a-图4d是本发明实施例中提供的阵列基板的制作过程示意图。
在附图中,1:衬底基板;2、12:平坦层;3、13:第一电极层;4、14:绝缘层;5、15:第二电极层;6、16:电场线;7:液晶;8:对盒基板;9:封框胶;20:凸起;50:电极条。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
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