[发明专利]一种表面波等离子体设备

权利要求书

1.一种表面波等离子体设备，其包括依次相连的微波产生装置、微波传输装置和反应腔室，所述微波产生装置用于产生形成表面波等离子体的微波；所述微波传输装置包括波导和微波天线，其特征在于，所述微波天线被划分为多个子天线，且每个所述子天线对应所述反应腔室的不同区域，所述波导的数量和所述子天线的数量相等且二者一一对应相连，所述微波产生装置产生的微波经由各个所述波导和与该波导对应的所述子天线耦合至所述反应腔室的不同区域；并且

通过分别调节耦合至所述反应腔室不同区域的微波功率，以实现在反应腔室内基片上方形成均匀的大面积表面波等离子体。

2.根据权利要求1所述的表面波等离子体设备，其特征在于，还包括功率分配器，所述微波产生装置通过所述功率分配器与多个所述波导相连，并且，通过调节所述功率分配器来调节耦合至所述反应腔室不同区域的微波功率。

3.根据权利要求1或2所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述微波天线包括沿所述微波传输方向依次叠置的滞波板、缝隙板和介质板，其中，

所述滞波板被划分为多个子滞波板，且相邻两个所述子滞波板之间还设置有隔离件；

在所述缝隙板的与每个所述子滞波板对应的区域内设置有缝隙；

所述介质板的下表面处于所述反应腔室内；

每个所述子滞波板和所述缝隙板的与之对应的区域、所述介质板的与之对应的区域形成所述子天线。

4.根据权利要求3所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述滞波板被划分为沿其径向设置的中心子滞波板和环形子滞波板，所述隔离件为环形隔离件。

5.根据权利要求3所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述介质板被划分为与多个所述子滞波板一一对应的子介质板，且在相邻两个所述子介质板之间还设置有隔离件，

每个所述子滞波板和所述缝隙板的与之对应的区域、与之对应的所述子介质板形成所述子天线。

6.根据权利要求4所述的表面波等离子体设备，其特征在于，对应所述中心子滞波板和环形子滞波板，在所述缝隙板与之对应的区域内分别沿其径向设置有多个缝隙组，且每个缝隙组包括沿其周向间隔且均匀设置的缝隙。

7.根据权利要求3所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述微波天线还包括天线主体，所述天线主体采用金属材料制成，所述天线主体为一侧开口的封闭结构，所述天线主体套置在所述滞波板、缝隙板和介质板的外侧，且所述介质板位于所述开口位置处，

所述波导贯穿所述天线主体与所述滞波板相连。

8.根据权利要求7所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述介质板的边缘叠置在所述反应腔室的侧壁上，且在所述介质板的边缘和所述反应腔室的侧壁之间设置有密封圈。

9.根据权利要求8所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述反应腔室的侧壁和底壁采用金属材料制成，所述介质板的边缘叠置在所述反应腔室的侧壁内沿，所述天线主体叠置在所述反应腔室的侧壁外沿。

10.根据权利要求3所述的表面波等离子体设备，其特征在于，所述滞波板和所述介质板采用Al₂O₃、SiO₂或Si₃N₄制成。