[发明专利]铜及钼含有膜的蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物的总重量，含有：

15～30重量％的过氧化氢，

0.05～3重量％的过硫酸盐，

0.1～3重量％的蚀刻抑制剂，

0.1～5重量％的螯合剂，

0.01～2重量％的包含选自硫酸氢钾和硫酸氢钠中的一种以上化合物的蚀刻添加剂，

0.01～2重量％的氟化物，以及

使组合物总重量成为100重量％的水；

相对于100重量份的所述过氧化氢，含有1.8重量份至6重量份的过硫酸盐。

2.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述过硫酸盐为选自由过硫酸钠、过硫酸钾、过硫酸铵以及其混合物构成的群。

3.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻抑制剂选自呋喃、噻吩、吡咯、唑、咪唑、吡唑、1,2,4-三氮唑、四唑、5-氨基四唑、甲基四唑、哌嗪、甲基哌嗪、羟乙基哌嗪、吡咯烷、四氧嘧啶、氧茚、苯并噻吩、吲哚、苯并咪唑、苯并吡唑、甲基苯并三唑、氢甲基苯并三唑、羟甲基苯并三唑以及其混合物所构成的群。

4.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂是在分子内与氨基一起，含有羧酸基或磷酸基的化合物。

5.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂选自由亚氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、氨基三亚甲基膦酸、1-羟基亚乙基-1，1-二磷酸、乙二胺四甲撑磷酸、二亚乙基三胺五亚甲基磷酸、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸、甘氨酸及其混合物构成的群。

6.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟化物是离解出F^-或HF₂^-的化合物。

7.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述氟化合物选自HF、NaF、KF、AIF₃、HBF₄、NH₄F、NH₄HF₂、NaHF₂、KHF₂、NH₄BF₄及其混合物所构成的群。

8.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，所述水是电阻率值为18MΩ/cm以上的去离子水。

9.根据权利要求1所述的铜及钼含有膜的蚀刻液组合物，其特征在于，还包含添加剂，所述添加剂选自双氧水稳定剂、蚀刻稳定剂、玻璃蚀刻抑制剂及其混合物所构成的群。