[发明专利]一种表面形貌可调的纳米多孔CdZnO薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201410486603.7 | 申请日： | 2014-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN104328381B | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 田野;刘大博;罗飞;成波;刘勇 | 申请（专利权）人： | 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 中国航空专利中心11008 | 代理人： | 李建英 |
| 地址： | 100095*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表面 形貌 可调 纳米 多孔 cdzno 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种表面形貌可调的纳米多孔CdZnO薄膜的制备方法，其特征在于：
(1)利用磁控溅射工艺，采用CdZnO陶瓷靶材作为溅射源，CdZnO陶瓷靶材中Cd的掺杂量以摩尔含量计为10％～30％，在清洗过的衬底片上沉积0.05～2μm厚的CdZnO薄膜；
(2)在空气下600--1100℃温度范围内为对沉积的CdZnO薄膜进行退火处理，热处理时间1小时，随后取出自然冷却，得到的CdZnO薄膜表面形貌为纳米多孔结构，孔洞呈“沟壑”状分布，并且相互贯通。
2.按照权利要求1所述的一种表面形貌可调的纳米多孔CdZnO薄膜的制备方法，其特征在于，所述的CdZnO薄膜的表面形貌通过改变溅射工艺中CdZnO陶瓷靶材内Cd的含量进行调控，其孔洞平均宽度从几十纳米到微米级可调节。
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