[发明专利]掩膜版、利用其形成的隔垫物及利用其制备隔垫物的方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括掩膜版基板，所述掩膜版基板上设有透光区域和遮光区域；

所述透光区域处设有菲涅耳波带片，所述菲涅尔波带片用于在玻璃基板上形成圆柱状隔垫物和/或倒锥状隔垫物。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述菲涅尔波带片的横截面为圆形，由一系列同心圆环状带区构成；

所述菲涅尔波带片的中心为圆形带；沿径向向外方向，所述菲涅尔波带片上依次设有多个圆环状的明带和暗带；所述明带为透光带，所述暗带为不透光带；

多个所述明带和暗带交替设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述圆形带为暗带；

或，所述圆形带为明带。

4.根据权利要求2或3所述的掩膜版，其特征在于，所述圆形带、明带和暗带均为所述菲涅尔波带片的波带级数，且所述圆形带为一级；

所述菲涅尔波带片的波带级数为3-13。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述菲涅尔波带片的半径为R、所述菲涅尔波带片的主焦距为f、所述菲涅尔波带片的波带级数总数为m；

照射到所述菲涅尔波带片的入射光为单一的平行光，且入射光的波长为λ；根据关系式f＝R*R/mλ得到所述主焦距f的数值。

6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版与玻璃基板之间的距离小于所述主焦距f时，通过所述掩膜版能够在所述玻璃基板上形成倒锥状隔垫物；

所述掩膜版与玻璃基板之间的距离等于所述主焦距f时，通过所述掩膜版能够在所述玻璃基板上形成圆柱状隔垫物；

所述掩膜版与玻璃基板之间的距离大于所述主焦距f时，通过所述掩膜版能够在所述玻璃基板上形成正锥状隔垫物。

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述菲涅尔波带片的横截面为圆形，且为包括内波带片和外波带片的复合式菲涅尔波带片；

所述内波带片位于所述外波带片的中心处，且为所述外波带片的圆形带。

8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述内波带片的波带级数为11，所述外波带片的波带级数为3。

9.一种隔垫物，其特征在于，使用权利要求1-8任一项所述的掩膜版形成。

10.一种制备隔垫物的方法，其特征在于，使用了权利要求1-8任一项所述的掩膜版，包括

步骤1、在基板上涂覆光刻胶层；

步骤2、使用所述掩膜版对所述光刻胶层进行曝光、显影、刻蚀，在所述基板上形成隔垫物。