[发明专利]一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法有效

专利信息
申请号: 201410479415.1 申请日: 2014-09-19
公开(公告)号: CN104198164B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 朱咸昌;胡松;赵立新 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 代理人: 杨学明,顾炜
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 哈特曼波前 检测 原理 方法
【权利要求书】:

1.一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法,该检焦方法使用的检焦系统由光源及准直扩束系统(1)、前置透镜组(2)、被测硅片(3)、后置透镜组(4)、微透镜阵列(5)和CCD探测器(6)组成,其中,前置透镜组(2)和后置透镜组(4)构成一个4f系统,被测硅片(3)位于其共焦面上,其特征在于:光源及准直扩束系统(1)的出射平面波前经过前置透镜组(2)后入射到被测硅片(3)表面,经过被测硅片3)反射后,通过后置透镜组(4)和微透镜阵列(5)后,在CCD探测器中成像:当被测硅片(3)位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面时,微透镜阵列(5)对平面波前成像;当被测硅片(3)离焦时,微透镜阵列(5)对球面波前成像,根据CCD探测器(6)中成像光斑的变化情况,即可完成被测硅片(3)的检焦测量。

2.根据权利要求1所述的检焦方法,其特征在于:当被测硅片(3)位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面位置时,光源及准直扩束系统(1)的出射平面波前经过4f系统后仍为平面波前,微透镜阵列(5)对平面波前成像,CCD探测器(6)中的衍射光强分布为:

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其中,J1(Z)为一阶贝塞尔函数,d为微透镜阵列的子单元口径,f为微透镜阵列焦距,M,N为微透镜阵列子单元的行列数,k=2π/λ为波长λ对应的波数,x,y为CCD探测器中的坐标位置,被测硅片位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面位置时,CCD探测器(6)中的衍射光斑位于微透镜阵列(5)各个子单元的焦点位置。

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