[发明专利]一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法有效
申请号: | 201410479415.1 | 申请日: | 2014-09-19 |
公开(公告)号: | CN104198164B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 朱咸昌;胡松;赵立新 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人: | 杨学明,顾炜 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 哈特曼波前 检测 原理 方法 | ||
1.一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法,该检焦方法使用的检焦系统由光源及准直扩束系统(1)、前置透镜组(2)、被测硅片(3)、后置透镜组(4)、微透镜阵列(5)和CCD探测器(6)组成,其中,前置透镜组(2)和后置透镜组(4)构成一个4f系统,被测硅片(3)位于其共焦面上,其特征在于:光源及准直扩束系统(1)的出射平面波前经过前置透镜组(2)后入射到被测硅片(3)表面,经过被测硅片3)反射后,通过后置透镜组(4)和微透镜阵列(5)后,在CCD探测器中成像:当被测硅片(3)位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面时,微透镜阵列(5)对平面波前成像;当被测硅片(3)离焦时,微透镜阵列(5)对球面波前成像,根据CCD探测器(6)中成像光斑的变化情况,即可完成被测硅片(3)的检焦测量。
2.根据权利要求1所述的检焦方法,其特征在于:当被测硅片(3)位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面位置时,光源及准直扩束系统(1)的出射平面波前经过4f系统后仍为平面波前,微透镜阵列(5)对平面波前成像,CCD探测器(6)中的衍射光强分布为:
其中,J1(Z)为一阶贝塞尔函数,d为微透镜阵列的子单元口径,f为微透镜阵列焦距,M,N为微透镜阵列子单元的行列数,k=2π/λ为波长λ对应的波数,x,y为CCD探测器中的坐标位置,被测硅片位于前置透镜组(2)和后置透镜组(4)的共焦面位置时,CCD探测器(6)中的衍射光斑位于微透镜阵列(5)各个子单元的焦点位置。
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