[发明专利]CMP抛光垫中的渗透式开凹槽

权利要求书

1.一种CMP抛光垫，其包括：

CMP抛光层，其包含经配置以在存在抛光媒质的情况下抛光磁性、光学或半导体衬底中的至少一者的表面的抛光垫，所述抛光层包含旋转轴、外周边及与所述旋转轴同心的环形抛光轨迹，其中所述抛光垫具有顶部表面、底部表面及厚度；

多个凹槽，其形成于所述抛光垫中，包括完全位于所述抛光垫内的第一及第二组凹槽；

位于所述抛光垫的所述顶部表面上的所述第一组凹槽具有一图案且垂直地穿透到抛光垫的所述顶部表面中达所述抛光垫厚度的至少50％；且

所述第二组凹槽位于所述抛光垫的所述底部表面上、具有与所述第一组凹槽的所述图案相同的图案且垂直地穿透到抛光垫的所述底部表面中达所述抛光垫厚度的至少50％；且其中所述第一组凹槽位于内部端之间并在所述内部端处交错而所述第一组凹槽与所述第二组凹槽之间不具有任何相交点，且经配置以向正抛光的材料呈现从所述垫的所述顶部到所述抛光垫的所述底部的6％内的连续凹槽。

2.根据权利要求1所述的CMP抛光垫，其中所述抛光垫由选自包括以下各项的群组的材料构成：聚氨酯、聚碳酸酯、尼龙、丙烯酸聚合物或聚酯。

3.根据权利要求1所述的CMP抛光垫，其中所述抛光垫图案选自包括以下各项的群组：径向、同心圆、笛卡尔网格、直线、随机或螺旋形图案。

4.一种CMP抛光垫，其包括：

CMP抛光层，其包含经配置以在存在抛光媒质的情况下抛光磁性、光学或半导体衬底中的至少一者的表面的抛光垫，所述抛光层包含旋转轴、外周边及与所述旋转轴同心的环形抛光轨迹，其中所述抛光垫具有顶部表面、底部表面及厚度；

多个凹槽，其形成于所述抛光垫中，包括完全位于所述抛光垫内的第一、第二及第三组凹槽；

位于所述抛光垫的所述顶部表面上的所述第一组凹槽具有一图案且垂直地穿透到抛光垫的所述顶部表面中达所述抛光垫厚度的至少37％；

所述第二组凹槽位于所述抛光垫的所述底部表面上、具有与所述第一组凹槽的所述图案相同的图案且垂直地穿透到抛光垫的所述底部表面中达所述抛光垫厚度的至少37％；且其中所述第一组凹槽经定位而在内部端处与所述第二组凹槽直接对准；且

所述第三组凹槽居中于所述抛光垫的所述顶部表面与所述抛光垫的所述底部表面之间且位于所述第一及第二凹槽的所述经对准内部端之间并与所述经对准内部端交错，且经配置以向正抛光的材料呈现从所述垫的所述顶部到所述抛光垫的所述底部的6％内的连续凹槽。

5.根据权利要求4所述的CMP抛光垫，其中所述抛光垫由选自包括以下各项的群组的材料构成：聚氨酯、聚碳酸酯、尼龙、丙烯酸聚合物或聚酯。

6.根据权利要求4所述的CMP抛光垫，其中所述抛光垫图案选自包括以下各项的群组：径向、同心圆、笛卡尔网格、直线、随机或螺旋形图案。

7.一种抛光垫，其包括：

抛光层，其经配置以在存在抛光媒质的情况下抛光磁性、光学或半导体衬底中的至少一者的表面，所述抛光层包含：

旋转轴；

外周边；

环形抛光轨迹，其与所述旋转轴同心；及

周边区域，其位于所述环形抛光轨迹与所述外周边之间；及

多个凹槽，其形成于具有顶部及底部表面的所述抛光层中，且包括：

形成于所述抛光垫中的所述多个凹槽，其包括完全位于所述抛光垫内的第一及第二组凹槽；

位于所述抛光垫的所述顶部表面上的所述第一组凹槽具有一图案且垂直地穿透到抛光垫的所述顶部表面中达抛光垫厚度的至少50％；且

所述第二组凹槽位于所述抛光垫的所述底部表面上、具有与所述第一组凹槽的所述图案相同的图案且垂直地穿透到抛光垫的所述底部表面中达所述抛光垫厚度的至少50％；且其中所述第一组凹槽位于内部端之间并在所述内部端处交错而所述第一组凹槽与所述第二组凹槽之间不具有任何相交点，且经配置以向正抛光的材料呈现从所述垫的所述顶部到所述抛光垫的所述底部的6％内的连续凹槽。

8.根据权利要求7所述的抛光垫，其中所述抛光垫由选自包括以下各项的群组的材料构成：聚氨酯、聚碳酸酯、尼龙、丙烯酸聚合物或聚酯。

9.根据权利要求7所述的抛光垫，其中所述抛光垫图案选自包括以下各项的群组：径向、同心圆、笛卡尔网格、直线、随机或螺旋形图案。