[发明专利]可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法无效
| 申请号: | 201410467546.8 | 申请日: | 2014-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN104230183A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
| 发明(设计)人: | 丁亮亮;洪瑞金;杨赛;张大伟;陶春先 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
| 主分类号: | C03C19/00 | 分类号: | C03C19/00 |
| 代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根 |
| 地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 调谐 表面 增强 散射 基底 制备 方法 | ||
1.一种可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:
1)对K9玻璃基底进行清洗,去除基片表面的油污杂质;
2)将K9玻璃基底放入离子束刻蚀系统,设定离子束轰击角度、刻蚀电流、加速电压、刻蚀时间,对K9玻璃基底进行离子束刻蚀,形成表面具有粗糙度的基底;
3)将刻蚀后的基底清洗干净后置于真空沉积系统中进行烘干;
4)把烘干刻蚀后的K9玻璃基底放入直流溅射沉积系统中,设定沉积工作功率和薄膜沉积时间,将货币金属均匀的沉积在被刻蚀的基底表面,形成表面增强层基底,将沉积好的薄膜基底取出。
2.根据权利要求1所述可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法,其特征在于,所述货币金属选金、银、铜中的任意一种或两种以上的复合材料层。
3.根据权利要求2所述可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法,其特征在于,
所述离子束刻蚀系统离子束轰击角度0~80度,刻蚀电流为100~600mA,加速电压为100~600V,刻蚀时长为1~30分钟。
4.根据权利要求3所述可调谐表面增强拉曼散射基底的制备方法,其特征在于,
所述离子束刻蚀系统,所用气体为四氟化碳。
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