[发明专利]一种仿生青蒿素分子印迹复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种仿生青蒿素分子印迹复合膜的制备方法，其特征在于，按以下步骤进行：

（1）SiO₂纳米颗粒的制备：

首先，配制溶液A：将氨水和乙醇溶于水中，于烧瓶中磁力搅拌；然后配置

溶液B：将正硅酸乙酯和乙醇混合均匀；将溶液B快速加入A中，并尽量不要让溶液B接触瓶壁；一分钟后搅拌速度降低；用parafilm封住反应烧瓶口，室温下反应；用乙醇离心清洗三次，真空烘干，即得到SiO₂纳米颗粒；

（2）丙烯酰胺表面改性SiO₂纳米颗粒的制备

首先，将（1）中得到的SiO₂纳米颗粒和3-氨丙基三乙氧基硅烷按照比例混

合分散于无水甲苯中，反应，将得到的产物记为SiO₂-APTES，反应结束后，将所得SiO₂-APTES清洗后分散于新的无水甲苯中；

然后，在上述SiO₂-APTES甲苯溶液中加入丙烯酰氯，用无水碳酸钾做催化剂，室温搅拌反应，得到丙烯酰胺表面改性SiO₂纳米颗粒，记为SiO2-AA，所得产物清洗后真空干燥备用；

（3）合成SiO₂纳米颗粒负载再生纤维素复合膜

首先，将多巴胺溶解于Tris-HCl 溶液中，然后将再生纤维素膜置于上述溶液

中，多巴胺改性，使聚多巴胺层沉积在再生纤维素膜表面，将所得聚多巴胺改性膜（PDARCM）室温干燥备用；最后将（2）中制备的SiO2-AA和PDARCM与甲醇混合，超声后，将上述甲醇溶液置于高压反应釜反应；反应结束后，用乙醇将所得SiO₂纳米颗粒负载再生纤维素复合膜清洗三次，真空烘干备用；

（4）合成仿生分子印迹复合膜

将青蒿素和丙烯酰胺溶解于乙醇中，超声震荡，使之充分溶解，然后将该混

合物体系置于室温密闭静置，使其形成稳定的模板-单体复合物，然后向该体系加入二甲基丙烯酸乙二醇酯、偶氮二异丁腈以及（3）中所得SiO₂纳米颗粒负载再生纤维素复合膜；在氮气保护下反应，反应结束后，将产物充分洗涤，真空干燥至恒重制得仿生分子印迹复合膜。

2.根据权利要求1中所述的一种仿生青蒿素分子印迹复合膜的制备方法，其特

征在于，

步骤（1）中所述的溶液A中氨水、乙醇和水的体积比为8:16:24；

所述烧瓶中磁力搅拌速度为1100rpm；

所述溶液B中正硅酸乙酯和乙醇的体积比为9:1；

所述溶液B与溶液A的体积比为1:1；

所述一分钟后搅拌速度降低至500 rpm；

所述室温下反应时间为3小时。

3.根据权利要求1中所述的一种仿生青蒿素分子印迹复合膜的制备方法，其特

征在于，

步骤（2）中所述的SiO₂纳米颗粒和3-氨丙基三乙氧基硅烷的比例为0.1 g:2mL；

所述的反应为在氮气保护下50 ^oC反应12小时；

所述将SiO₂-APTES清洗为用甲苯离心清洗三次；

所述SiO₂-APTES、甲苯与丙烯酰氯的比例为0.1 g:50 mL：1-2mL；

所述SiO₂-APTES与催化剂无水碳酸钾的质量比为10:1；

所述的室温搅拌反应条件为在氮气保护下室温搅拌反应10小时；

所述将产物洗涤为产物用甲苯清洗三次，乙醇清洗三次。

4.根据权利要求1中所述的一种仿生青蒿素分子印迹复合膜的制备方法，其特

征在于，

步骤（3）中所述的多巴胺浓度为2 mg/L； Tris-HCl 溶液的浓度为10 mM ，pH=8.5；

所述改性为25 ^oC改性24小时；

所述SiO2-AA、PDARCM和甲醇的比例为0.15 g：3片：100 mL；

所述超声时间为10分钟；

所述在高压反应釜中反应为75 ^oC 反应24小时。