[发明专利]一种用于改善PERC电池背部开槽接触的方法在审

专利信息
申请号: 201410449122.9 申请日: 2014-09-05
公开(公告)号: CN104201150A 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 郝彦磊;蒋方丹;金浩;陈康平 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L31/18
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 吴关炳
地址: 314416 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 改善 perc 电池 背部 开槽 接触 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种用于改善PERC电池背部开槽接触的方法。

背景技术

现有PERC电池常规制备流程包括:硅片抛光、制绒、扩散、去边结和去PSG,双面钝化、背部开槽、丝网印刷电极和烧结步骤。其中背部开槽是为了实现PERC电池的背部接触,形成背部电极,开槽好坏直接影响着电池性能的优劣,一般采用激光和化学刻蚀进行开槽。化学刻蚀方法缺点是:操作流程复杂,还会带来一些金属离子杂质的污染,并且化学药品对环境造成危害。激光开槽缺点:在丝网印刷之前采用激光开槽,经过丝网印刷烧结后,使得开槽附近的钝化效果变差,并且容易在BSF处形成空洞,并且激光开槽容易造成热损伤,会大大降低少子的寿命,使电池的性能变差。因此,如何改善开槽技术成为制约PERC电池大规模生产的重要因素。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种用于改善PERC电池背部开槽接触的方法,省去了PERC电池背部开槽的工序,工艺简单,提高了生产效率,且制作成本低,性能更好。

本发明解决技术问题所采用的技术方案是:一种用于改善PERC电池背部开槽接触的方法,依次包括硅片抛光、制绒、扩散、去边结和去PSG、双面钝化、丝网印刷电极和烧结步骤,其特征在于:在所述去边结和去PSG步骤后增设背部丝网印刷Al浆并形成栅线状铝背场步骤,将制备有栅线状铝背场的硅片进行钝化后,背部印刷背电极主栅烧穿钝化层,从而与栅线状铝背场接触,能充分收集载流子,省去了常规双面钝化步骤后的背部开槽步骤;所述栅线状铝背场由排列整齐的若干细栅线组成。

作为一种优选,所述栅线状铝背场的边长为153mm,所述细栅线宽度80um,细栅线之间的间距为1.0mm。

本发明是在钝化之前的硅片背面先印刷类似正面电极的细栅线,其在烧结后形成局部铝背场,将制备有栅线状铝背场的硅片进行双面钝化,可省去以往钝化后必需的开槽步骤,直接利用丝网印刷技术,对PERC电池烧结并测试性能。其他人根据本专利的提示做出的非本质的修改和调整,仍属于本专利的保护范围。

本发明的有益效果是: 去边结和去PSG步骤后增设背部丝网印刷Al浆并形成栅线状铝背场步骤,省去了PERC电池背部必须开槽的工序,从而解决了以往利用激光或化学腐蚀方法开槽所带来的不良影响,使得背部在烧结过程中得到很好的保护。背部形成局部的铝背场,比全铝背场节省铝浆,因此降低了生产成本,且由于正反两面电极是对称的,大大降低了电池片的翘曲度,能够降低碎片率;在细栅线边缘以及表面覆盖有钝化层,起到了保护和绝缘的作用。在印刷背部主栅线的时候,与细栅线相接触的部分被烧结到一起,可以形成很好的电极接触,并能够充分收集光生电流。背部形成与组件匹配的三个主栅结构,与组件现用工艺相适应,提高了电池到组件的匹配性。

附图说明

图1为本发明实施例栅线状铝背场的结构示意图。

下面结合附图对本发明做进一步说明。

具体实施方式

如附图1所示一种用于改善PERC电池背部开槽接触的方法,依次包括硅片抛光、制绒、扩散、去边结和去PSG、双面钝化、丝网印刷电极和烧结步骤,其特征在于:在所述去边结和去PSG步骤后增设背部丝网印刷Al浆并形成栅线状铝背场步骤,将制备有栅线状铝背场的硅片进行钝化后,背部印刷背电极主栅烧穿钝化层,从而与栅线状铝背场接触,能充分收集载流子,省去了常规双面钝化步骤后的背部开槽步骤;所述栅线状铝背场由排列整齐的若干细栅线1组成。所述栅线状铝背场的边长为153mm,细栅线1宽度80um,细栅线1之间的间距为1.0mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司;,未经浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410449122.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top